[发明专利]抗反射硬掩膜组合物

权利要求书

1.一种抗反射硬掩膜组合物，包含：

(a)由下述化学式1表示的芳基咔唑衍生物聚合物或包含它的聚合物混合物；及

(b)有机溶剂，

[化学式1]

在所述化学式1中，A₁和A₂分别独立地为C₆～C₄₀的芳族芳基(aryl)，A₁和A₂可以相同或不同，

R为叔丁氧基羰基、乙氧基乙基、异丙氧基乙基或四氢吡喃基，

X₁和X₂分别为衍生自可与所述芳基咔唑衍生物和所述A₂在酸催化剂条件下一对一聚合的醛或醛的缩醛单体的聚合连接基，

m/(m+n)＝0.05～0.8，

全部共聚物的重均分子量(Mw)为1,000～30,000。

2.根据权利要求1所述的抗反射硬掩膜组合物，其中，

所述A₁和A₂分别选自如下取代体中的任何一个

。

3.根据权利要求1或2所述的抗反射硬掩膜组合物，其中，

所述A₁为苯基、联苯基、萘基、蒽基、菲基或芘基，

A₂为萘基、芘基、二苯基芴基、二萘基芴基。

4.根据权利要求1或2所述的抗反射硬掩膜组合物，其中，

所述X₁或X₂为苯甲醛基、萘甲醛基或联苯甲醛基。

5.根据权利要求1或2所述的抗反射硬掩膜组合物，还包含交联剂及酸催化剂成分。

6.根据权利要求5所述的抗反射硬掩膜组合物，其中，

(a)由所述芳基咔唑衍生物制备的聚合物或包含它的聚合物混合物为1～30重量％；

(b)交联剂成分为0.1～5重量％；

(c)酸催化剂为0.001～0.05重量％；以及

(d)使用有机溶剂作为余量成分，总量为100重量％。

7.根据权利要求6所述的抗反射硬掩膜组合物，其中，

所述交联剂是选自三聚氰胺树脂、氨基树脂、甘脲化合物及二环氧化合物中的任何一种。

8.根据权利要求6所述的抗反射硬掩膜组合物，其中，

所述酸催化剂选自对甲苯磺酸一水合物、吡啶对甲苯磺酸盐、2,4,4,6-四溴环己二烯酮、苯偶姻甲苯磺酸盐、2-硝基苄基甲苯磺酸盐及有机磺酸的烷基酯。