[发明专利]一种激光响应的P(AM-co-St)@Bi2 有效
申请号: | 201810800065.2 | 申请日: | 2018-07-20 |
公开(公告)号: | CN109180961B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 曹峥;陈玉园;李丹;张成;成骏峰;刘春林;吴盾 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | C08J3/075 | 分类号: | C08J3/075;C08F292/00;C08F220/56;C08F212/08;C08F222/38;C08L51/10 |
代理公司: | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 王美华 |
地址: | 213164 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 响应 am co st bi base sub | ||
1.一种激光响应的P(AM-
步骤(1):量取去离子水溶剂于烧杯中,加入三氧化二铋(Bi2O3),搅拌均匀,再加入3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(TMSPMA),将油浴温度升高到70℃,反应2h,反应后收集产物,将产物置于真空烘箱60℃进行烘干,烘干后进行研磨,得到末端带有双键的改性Bi2O3粒子;其中,TMSPMA与Bi2O3的质量比为1:5;
步骤(2):丙烯酰胺(AAm)为主要单体,溶于溶剂中,加入带有双键的苯乙烯(St),然后再添加步骤(1)末端带有双键的改性Bi2O3粒子,并加入促进剂N,N,N’,N’-四甲基乙二胺(TMEDA)、交联剂N,N’-亚甲基双丙烯酰胺(MBA)和引发剂过硫酸钾(K2S2O8),通过自由基聚合制备P(AM-
步骤(2)中所述的溶剂为N,N-二甲基甲酰胺( DMF) 或去离子水,提纯的溶液为去离子水;
步骤(2)中所述的AAm、St、改性Bi2O3、TMEDA、MBA、K2S2O8的质量比为50:1~3:0~3:1~2: 1~2:1~3,聚合反应温度为25℃,聚合反应时间为6~8h。
2.一种如权利要求1所述的制备方法制得的激光响应的P(AM-
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