[发明专利]背光模块及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810811191.8 申请日: 2018-07-23
公开(公告)号: CN108878202A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 黄恒仪;何信政;陈在宇 申请(专利权)人: 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司
主分类号: H01H13/83 分类号: H01H13/83;G02B6/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 遮光板 背光模块 发光元件 导光板 键帽 反射板 电路 散射结构 遮光部 光源电路板 发射光线 光源设置 轻薄化 制造 背离
【说明书】:

发明公开一种背光模块及其制造方法,背光模块包括导光板以及遮光板。导光板位于多个键帽下方并具有散射结构,散射结构位于键帽的下方;遮光板具有遮光板本体、遮光部、多个露光部、电路与遮光板发光元件,遮光部和多个露光部位于遮光板本体接近多个键帽的一侧,电路与遮光板发光元件位于遮光板本体背离多个键帽的一侧;电路对遮光板发光元件提供电能,遮光板发光元件朝导光板发射光线。本发明可选择将光源设置于遮光板或反射板,使得背光模块中无需设置光源电路板,也可选择使背光模块的导光板兼具有反射板的作用,使得背光模块中无需设置反射板,因此,本发明背光模块可减少构件数量而降低厚度,符合业界对于背光模块的轻薄化要求。

技术领域

本发明有关于一种背光模块及其制造方法,详而言之,本发明关于一种可省略光源电路板的背光模块及其制造方法。

背景技术

键盘是计算机使用上不可或缺的配件。当键盘于光线强度较弱的昏暗环境操作时,使用者可能无法看清楚键盘上每颗按键的键帽上所标示的识别符号,而让使用者对键盘的操作出现困难。

因此,遂有人设计出发光键盘,且由于发光键盘的逐渐普及,使用者对于发光键盘的功能要求也愈趋严格。请参阅图1,图1为习知发光键盘的主要层体示意图。如图1所示,习知的发光键盘3由上而下包含按键组31与背光模块32。其中,按键组31上具有多个按键311,而背光模块32上具有遮光板321、导光板322、光源电路板323与反射板324,藉由导光板322的导光与反射板324的反光,使光源电路板323的光线能够穿过遮光板321,而让各按键311上的键帽3111处于背光环境中,如此可使键帽3111上的识别符号发光,而让使用者在昏暗环境中藉由光亮识别每颗按键311的种类。

但是,背光模块32中的光源电路板323存在有厚度无法降低的技术问题,导致目前背光模块32无法有效减少厚度,使得发光键盘无法满足业界对于轻薄化的设计要求。是以,如何减少背光模块的厚度,以让发光键盘轻薄化,遂为现在业界所关注的技术议题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种背光模块及其制造方法,可降低现有技术中背光模块的亮度,从而使得发光键盘轻薄化。

为了达到上述目的,本发明提供一种背光模块,可用照亮多个键帽,多个键帽间具有键帽间隙,背光模块包括:导光板与遮光板。导光板位于多个键帽下方,导光板具有多个散射结构,多个散射结构分别位于多个键帽其中之一的下方。遮光板位于多个键帽与导光板之间,遮光板具有遮光板本体、遮光部、多个露光部、电路与遮光板发光元件,遮光部和多个露光部位于该遮光板本体接近多个键帽的一侧,电路与遮光板发光元件位于该遮光板本体背离多个键帽的一侧;其中,电路对遮光板发光元件提供电能,遮光板发光元件朝导光板发射光线,光线可在导光板内部传递,当光线行进到多个散射结构时,多个散射结构使光线部分脱离导光板;其中,遮光部位于键帽间隙下方,而遮挡光线经由键帽间隙射出,多个露光部分别位于多个键帽其中之一的下方,使光线可穿过多个露光部而分别朝向多个键帽传递。

作为可选的技术方案,该背光模块还包括反射板,该反射板位于该导光板背离该遮光板的一侧,该反射板将脱离该导光板的该光线反射回到该导光板内。

作为可选的技术方案,该导光板进一步具有导光板反射层,该导光板反射层位于该导光板背离该键帽的一侧,该导光板反射层将脱离该导光板的该光线反射回到该导光板内。

作为可选的技术方案,该导光板反射层由反射油墨所构成,该反射油墨为白色油墨。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司,未经苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810811191.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top