[发明专利]具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件及其制备方法

权利要求书

1.一种具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：将抛光好的微孔光学元件半成品顺序进行如下工艺处理：

步骤一、低浓度酸碱交替重复腐蚀

将微孔光学元件半成品先后置于低浓度酸溶液中搅拌和低浓度碱溶液中搅拌，并且在低浓度酸溶液中的搅拌时间为120分钟~360分钟，在低浓度碱溶液中的搅拌时间为10分钟~30分钟，每次在低浓度酸溶液或在低浓度碱溶液中搅拌完后，均将微孔光学元件半成品置于纯水中搅拌10分钟~30分钟，至此完成1轮酸碱交替腐蚀；上述酸碱交替腐蚀的过程重复3~5轮，使得微孔光学元件半成品原先起支撑作用的芯玻璃完全溶解，此时，微孔光学元件通道内表面的粗糙度Ra为1nm~3nm左右；

步骤二、高浓度酸腐蚀

将步骤一中处理完的微孔光学元件半成品置于酸的质量百分比浓度为30%~65%的高浓度酸溶液中搅拌30分钟~100分钟，使得微孔光学元件半成品的通道表面粗糙度Ra10nm，之后取出微孔光学元件半成品并用纯水清洗30分钟~60分钟，然后将微孔光学元件半成品至于乙醇溶液中脱水；

步骤三、真空高温烘烤

将步骤二中处理完的微孔光学元件半成品至于真空环境中进行烘烤40分钟~90分钟，烘烤温度为420℃~520℃。

2.根据权利要求1所述的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：所述步骤一，所述的低浓度酸溶液中酸的质量百分比浓度为2%~10%，低浓度碱溶液中碱的质量百分比浓度为5%~15%。

3.根据权利要求2所述的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：所述低浓度酸溶液和高浓度酸溶液为硝酸或盐酸或硫酸。

4.根据权利要求3所述的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：所述低浓度碱为氢氧化钠或氢氧化钾。

5.根据权利要求3所述的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：所述乙醇的浓度为95%以上。

6.根据权利要求1所述的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：所述步骤一，酸碱交替腐蚀进行4轮。

7.根据权利要求1所述的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：所述步骤三中，将微孔光学元件半成品置于真空烘烤炉中，启动真空烘烤炉进行升温和抽真空；在真空烘烤炉的真空度大于等于1×10^-2Pa且烘烤温度为420℃~520℃之间的环境下，保持微孔光学元件半成品在真空烘烤炉中烘烤40分钟~90分钟；然后缓慢降温，待高温真空烘烤炉温度低于50℃时，把制成的微孔光学元件从真空烘烤炉中取出。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件的制备方法，其特征在于：所述微孔光学元件为微通道板。

9.一种根据权利要求1-8中任意一项所制备的具有大粗糙度通道内表面的微孔光学元件。