[发明专利]一种碳化硅纳米线疏水涂层及其制备方法在审
申请号: | 201810815058.X | 申请日: | 2018-07-14 |
公开(公告)号: | CN109135356A | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 李斌斌;毛帮笑;黄海泉 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C09D1/00 | 分类号: | C09D1/00;B82Y30/00;B82Y40/00;C01B32/963 |
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地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碳化硅纳米线 疏水涂层 制备 聚碳硅烷 时间应用 制备工艺 超疏水 先驱体 一步法 自清洁 超轻 沉积 热解 疏水 | ||
1.一种碳化硅纳米线疏水涂层,其特征在于,涂层由直径为30-100nm的碳化硅纳米线组成,厚度为0.5-1.0mm,涂层疏水角为150°。
2.一种碳化硅纳米线疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
(1)将基体依次用丙酮、无水乙醇和去离子水超声清洗10min,去除表面的粉尘,氮气吹干待用;
(2)将0.8-1.2g聚碳硅烷研磨成粉末,放置于100℃烘箱加热3h,烘干备用;
(3)将(2)中的聚碳硅烷均匀置于陶瓷坩埚中,将陶瓷坩埚放置于管式炉的高温区,将基体放置于管式炉中尾部;将管式炉抽真空,通入氩气,保证管式炉中为常压,之后将管式炉以5-10℃/min升至1100-1200℃,保温2-3h,之后随炉冷却至室温,打开管式炉在基体上制备了碳化硅纳米线疏水涂层。
3.根据权利要求2所述的碳化硅纳米线疏水涂层的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的基体包括,碳片、陶瓷基复合材料。
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