[发明专利]一种竹根篆刻艺术印章的摹刻方法有效

专利信息
申请号: 201810816917.7 申请日: 2018-07-24
公开(公告)号: CN109130664B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 杨茂坤 申请(专利权)人: 杨茂坤
主分类号: B44C1/22 分类号: B44C1/22;B27M1/06;B27K9/00;B27K3/12;B27K5/00;B27K3/16;B41K1/02
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 裴金华
地址: 313000 浙江省湖*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 篆刻 艺术 印章 摹刻 方法
【说明书】:

发明公开一种竹根篆刻艺术印章的摹刻方法,涉及印章篆刻技术领域,其包括:选取生长多年的竹根,按照原印的摹刻印面的尺寸大小对竹根进行切割、打磨、抛光,得到印章块;将印章块的四个立面均进行倒角后放入高压炭化炉内热处理,得到炭化印章块;对原印进行扫描并排版后,使用激光雕刻机对炭化印章块的印面进行雕刻得到粗印章;对粗印章的残缺和不规则的部分进行手工修刻,用水砂纸打磨粗印章的印面得到基础印章;对基础印章进行染料蒸煮,待染色后的基础印章晾干后打上蜂蜡得到印章。本发明易与名家原印一致、防止印章霉变、上色容易、使用年限长、盖面清晰、提高印章生产效率。

技术领域

本发明涉及印章篆刻技术领域,尤其涉及一种竹根篆刻艺术印章的摹刻方法。

背景技术

篆刻是中华民族优秀传统艺术之一,摹刻历代名印(用印石)是篆刻学习和欣赏的一个途径,深受篆刻家和爱好者的喜爱。

虽然用竹根刻印章是完全可以做到的,但用竹根摹刻历代名印,至今没有非常成功的先例。

发明人发现用现有的方法摹刻历代名印,要达到与历代名印完全一致非常困难,发明人还邀请一些篆刻家(西泠印社社员)试刻,篆刻家也认为不可能达到完全一致。

发明内容

本发明的目的在于,针对现有技术的上述不足,提出一种竹根篆刻艺术印章的摹刻方法。

本发明解决其技术问题,采用的技术方案是,提出一种竹根篆刻艺术印章的摹刻方法,其包括以下步骤:

a)、选取生长多年的竹根,按照原印的摹刻印面的尺寸大小对竹根进行切割、打磨、抛光,得到印章块;

b)、将印章块的四个立面均进行倒角处理后放入150~230℃、0.25~0.5 MPa气压的高压炭化炉内热处理2~5h,得到炭化印章块;

c)、对原印进行扫描并排版后,使用激光雕刻机对炭化印章块的印面进行雕刻得到粗印章;

d)、对粗印章的残缺和不规则的部分进行手工修刻,用水砂纸打磨粗印章的印面得到基础印章;

e)、对基础印章进行染料蒸煮,待染色后的基础印章晾干后打上蜂蜡得到印章。

发明人发现手工篆刻不可能达到与原印完全一致的原因是竹根是直丝,只能用切刀,不能用冲刀。

之后发明人试用电脑扫描历代名家原印,用激光雕刻机刻印面,因艺术印章有残缺和不规则的部分,盖出来不清晰。即使通过手工修刻,需要修刻师傅极高的手艺才能与名家原印基本一致,而且在后续使用中,发生开裂等情况。

通过本发明将印章块炭化后,竹根印章块更加坚硬,不易开裂,修刻师傅拥有普通的修刻技术就可以修刻到与名家原印一致。同时,炭化时的高温高压,可以杀菌除螨,炭化后,竹根表面形成炭化微粒层,炭化微粒层形成让细菌、霉菌不易生长的环境,同时吸附力增强,对于后续上色更加有利。

作为优选,在步骤b)中,对印章块的四个立面均进行倒角处理后和放入高压炭化炉之前,对印章块喷洒蒙脱石悬浮液后裹上纱布放入烘干房,于200~280℃高温下热烘3~5h;然后对纱布喷洒蒸馏水,并降温至100~140℃持续热烘3~5h后冷却至室温;之后对印章块用毛刷清扫干净。对印章块喷洒蒙脱石悬浮液,蒙脱石具有脱霉的作用,可以吸附印章块中的霉菌和细菌,可以在炭化时快速消灭原有的霉菌,且能够提高灭菌率,蒙脱石对人体无害,且对环境无害。对印章块喷洒蒙脱石悬浮液后裹上纱布,可以使得烘干时,印章块的受热更加均匀,可以使得印章块密度更加均匀,后续的激光雕刻也更加容易雕刻,且盖出来更加清晰,需要修刻的程度降低,提高生产效率。对印章块进行清扫,可以去除印章块表面的杂质和残留的蒙脱石。

作为优选,所述纱布用30~50°的白酒浸泡后使用。一方面可以杀菌、另一方面可以对竹根进行一定的脱色方便后续上色。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨茂坤,未经杨茂坤许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810816917.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top