[发明专利]一种磁控溅射沉积铁膜和氧化铁膜的方法在审
| 申请号： | 201810817871.0 | 申请日： | 2018-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN108611618A | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 高斐;高蓉蓉;武鑫;王昊旭;雷婕 | 申请（专利权）人： | 陕西师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/18;C23C14/08 |
| 代理公司： | 西安永生专利代理有限责任公司 61201 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 710062 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铁膜 氧化铁 磁控溅射沉积 铁靶 非铁磁性 溅射沉积 金属圆片 均匀性好 铁电特性 磁屏蔽 结合力 铝圆片 膜致密 安插 基底 成功 | ||
1.一种磁控溅射沉积铁膜和氧化铁膜的方法，其特征在于：在靶枪和铁靶之间放一个非铁磁性的金属圆片，采用磁控溅射在玻璃衬底上沉积一层铁膜或氧化铁膜。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射沉积铁膜和氧化铁膜的方法，其特征在于：所述非铁磁性的金属圆片为铝圆片或铜圆片。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射沉积铁膜和氧化铁膜的方法，其特征在于：所述铝圆片或铜圆片的厚度为3～5mm，直径与铁靶相同。
4.根据权利要求1～3任意一项所述的磁控溅射沉积铁膜和氧化铁膜的方法，其特征在于磁控溅射沉积铁膜的具体操作过程为：将清洗干净的玻璃衬底装在磁控溅射设备的样品夹具上，将非铁磁性的金属圆片放在靶枪上面，接着将铁靶放在非铁磁性的金属圆片上，关上磁控溅射设备的真空室盖子，用机械泵和分子泵将沉积室抽真空至5.0×10-4～7.0×10-4Pa，接着打开氩气通气阀，并打开质量流量计，控制氩气流速为25.0～30.0sccm，先调节沉积室压强至1.5～2.0Pa、溅射功率为28～30W启辉，再调节沉积室压强至0.5～0.6Pa、溅射功率至110～115W，预溅射1～2分钟以除去铁靶表面的污染，接着打开挡板开始沉积，沉积结束后自然冷却至室温，即得到铁膜。
5.根据权利要求1～3任意一项所述的磁控溅射沉积铁膜和氧化铁膜的方法，其特征在于：其特征在于磁控溅射沉积氧化铁膜的具体操作过程为：将清洗干净的玻璃衬底装在磁控溅射设备的样品夹具上，将非铁磁性的金属圆片放在靶枪上面，接着将铁靶放在非铁磁性的金属圆片上，关上磁控溅射设备的真空室盖子，用机械泵和分子泵将沉积室抽真空至5.0×10-4～7.0×10-4Pa，接着打开氩气通气阀和氧气通气阀，并打开质量流量计，控制氧气流速为10.0～15.0sccm、氩气流速为15.0～20.0sccm，并控制氩气和氧气的总流速为25.0～30.0sccm，先调节沉积室压强至1.5～2.0Pa、溅射功率为28～30W启辉，再调节沉积室压强至0.5～0.6Pa、溅射功率至110～115W，预溅射1～2分钟以除去铁靶表面的污染，接着打开挡板开始沉积，沉积结束后自然冷却至室温，即得到氧化铁膜。
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