[发明专利]用于氮化硅材料的选择性抛光的组合物及方法有效
| 申请号： | 201810818481.5 | 申请日： | 2013-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN108822737B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | W.沃德 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 詹承斌 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 氮化 材料 选择性 抛光 组合 方法 | ||
1.一种酸性含水抛光组合物，其适用于在化学机械抛光(CMP)过程中抛光含有氮化硅的基材，该组合物包含：
(a)0.01至2重量％的至少一种粒状二氧化铈研磨剂；
(b)10至1000ppm的至少一种非聚合物型的不饱和氮杂环化合物；
(c)10至1000ppm的至少一种阳离子型聚合物；
(d)200至2000ppm的聚氧化烯聚合物，其中该聚氧化烯聚合物包含聚(乙二醇)-共-聚(丙二醇)嵌段共聚物和聚(乙二醇)；以及
(e)为此的含水载体，
其中，该组合物的pH值为3至4；和
其中所述阳离子型聚合物包含经季铵取代的聚合物。
2.权利要求1的组合物，其中该研磨剂以0.05至2重量％的浓度存在于该组合物中。
3.权利要求1的组合物，其中该聚氧化烯聚合物包含含有300至1500的乙二醇单体单元平均数的聚(乙二醇)聚合物。
4.权利要求1的组合物，其中该阳离子型聚合物包含聚(乙烯基吡啶)和经季铵取代的聚合物。
5.权利要求1的组合物，其中该阳离子型聚合物包含经季铵取代的丙烯酸酯聚合物、经季铵取代的甲基丙烯酸酯聚合物、或任意前述阳离子型聚合物的组合。
6.权利要求1的组合物，其中该非聚合物型的不饱和氮杂环化合物包含吡啶化合物。
7.权利要求1的组合物，其中该非聚合物型的不饱和氮杂环化合物包含吡啶化合物。
8.权利要求1的组合物，其中该非聚合物型的不饱和氮杂环化合物包含4,4’-三亚甲基二吡啶。
9.权利要求1的组合物，其中该二氧化铈研磨剂包含经煅烧的二氧化铈。
10.权利要求1的组合物，其中该含水载体包含去离子水。
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