[发明专利]一种读取装置在审

专利信息
申请号: 201810819466.2 申请日: 2018-07-24
公开(公告)号: CN109145663A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 姚一帆 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G06K7/10 分类号: G06K7/10
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 读取 光源 读取装置 放大投影 读码器 标记发射 发射光线 品质问题 设备成本 所在区域 便携性 磕碰 磨损 工作量 搬运 透明 配备 申请
【权利要求书】:

1.一种读取装置,其特征在于,所述读取装置包括光源,所述光源用于向待读取件发射光线,所述待读取件为透明待读取件,且设有标记,以使得所述光源向所述标记发射光线时,所述标记在所述待读取件远离所述光源的一侧形成放大投影。

2.根据权利要求1所述的读取装置,其特征在于,所述读取装置进一步包括反射机构,所述反射机构用于改变所述光源发射的光线的光路或所述标记的投影光路,以使得所述放大投影位于预设位置。

3.根据权利要求2所述的读取装置,其特征在于,所述反射机构包括支撑件及反射件,所述反射件与所述支撑件枢接,以根据不同的所述预设位置,调节所述光源发射的光线的光路或所述标记的投影光路。

4.根据权利要求1所述的读取装置,其特征在于,所述标记与所述放大投影的位置之间的距离小于或等于第一阈值,且大于或等于第二阈值,以提高所述放大投影的清晰度。

5.根据权利要求4所述的读取装置,其特征在于,所述读取装置进一步包括刻度件,所述刻度件设有刻度线,以根据所述刻度线的位置放置所述待读取件。

6.根据权利要求5所述的读取装置,其特征在于,所述刻度线的数量为两个,所述两个刻度线在所述标记的投影方向上间隔设置,且分别对应所述第一阈值及所述第二阈值。

7.根据权利要求1所述的读取装置,其特征在于,所述读取装置进一步包括显影件,所述显影件设置于所述待读取件远离所述光源的一侧,以使得所述标记在所述显影件上形成所述放大投影。

8.根据权利要求1所述的读取装置,其特征在于,所述光源的光照度可调节。

9.根据权利要求8所述的读取装置,其特征在于,所述光源的光照度为1000~1500Lux。

10.根据权利要求1所述的读取装置,其特征在于,所述光源与所述待读取件之间的距离可调节,以形成不同大小及不同清晰度的所述放大投影。

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