[发明专利]量子点及其制备方法在审
申请号: | 201810821456.2 | 申请日: | 2018-07-24 |
公开(公告)号: | CN110746974A | 公开(公告)日: | 2020-02-04 |
发明(设计)人: | 聂志文;杨一行 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | C09K11/88 | 分类号: | C09K11/88;C09K11/02;B82Y20/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 44237 深圳中一专利商标事务所 | 代理人: | 官建红 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子点 制备 纳米团簇 壳层 前驱体 制备方法和应用 化学结合能 量子点材料 发光效率 粒径均一 核表面 成壳 熟化 分解 生长 | ||
本发明涉及量子点材料技术领域,具体提供一种量子点及其制备方法和应用。所述制备方法包括以下步骤:利用ZnP纳米团簇和第一InP核制备第二InP核;以所述第二InP核为核,加入壳层前驱体,使壳层前驱体在所述第二InP核表面生长成壳层,获得以所述第二InP核为核的量子点。本发明的制备方法通过在第一InP核中加入ZnP纳米团簇,可获得粒径均一的第二InP核;ZnP纳米团簇P中的Zn和P具有较强的化学结合能,在反应中ZnP分解的P单体更加均匀而且更加持久,极大的抑制熟化的发生,可制备出尺寸更加均匀的量子点核,并由此获得具有壳层的量子点,具有更高的发光效率。
技术领域
本发明属于量子点材料技术领域,尤其涉及一种量子点及其制备方法。
背景技术
量子点通常是由大量原子组成的且一般呈球形的半导体晶体,由于它的尺寸很小,接近波尔半径,具有明显的量子效应。经过多年的研究和发展,II-VI族量子点的制备与合成技术已趋近完善,如:其形貌、尺寸和成分均可以实现精细制备,表面配体可以有选择性的进行调控;同时,其光致发光效率接近100%,发射峰宽可小于30nm,并开始广泛应用于发光器件、显示器件和生物领域中。然而,由于高性能的量子点材料通常含有镉或铅等有剧毒的重金属元素,在实际应用中仍然存在诸多的限制因素,大量制备和使用不仅损害人体生命健康,而且对环境和生态也存在着致命的危害。因此,开发和设计低毒、高性能的量子点是当今学术界的发展热点之一。
作为III-VI组量子点的重要成员之一,InP量子点具有许多无可比拟的优势。首先,自身材料由于不含镉和铅等A类污染元素和砷、硒等B类污染元素,已经被业界认为是极具研究价值的绿色、环保型材料;其次,InP的波尔半径为13nm,比一般的量子点半径大,因此其量子效应更强。然而,相比之下III-VI族量子点的研究发展就相对落后许多。原因之一是In和P间存在强烈的共价键,在合成该材料时所使用的前驱体的选择受到限制,且在制备过程中对合成条件提出了较为苛刻的要求(高温、长反应时间,且需要绝对的无水无氧条件),非常不利于后期的规模化制备。经过科学研究者们多年的共同努力和发展,InP量子点的制备和合成技术取得了长足的进步和发展。如该材料可通过调控粒径尺寸实现从蓝色到近红外的发光,在InP量子制备过程中采用的P(SiMe3)3由于其自身反应活性高,在成核瞬间由于消耗过快,导致InP量子点在生长过程中P单体补充不足,使得生长速度缓慢,容易发生熟化,引起所制备的InP量子点粒径分布变宽。为克服InP量子点合成过程中P(SiMe3)3消耗过快的问题,研究者对其进行了改进。如:采用活性相对较弱的P(GeMe3)3来制备InP量子点,然而具有良好单分散性的量子点难以实现;借鉴II-VI族量子点的合成思路,通过控制纳米团簇中间体的生成,可以一定程度上的提高InP量子点的粒径分布不均匀问题。然而,该方法通常是将InP的团簇作为P源来二次成核以便获得粒径分布较均匀的InP量子点,如公开号CN 106479482A的中国发明专利中采用第一InP核和InP团簇来制备第二InP核,然后在第二InP核外进行ZnSeS或ZnSe/ZnS壳层的生长。采用InP团簇可以一定程度上补充第二InP核生长的过程中所需的单体,从而一定程度上减少熟化的发生,有助于制备单分散的InP量子点。然而,该方法所制备的量子点的粒径分布仍难以与II-VI族量子点相比拟,其光致发光效率和发射峰宽远远落后于II-VI族量子点。
因此,InP量子点的制备方法依旧需要继续改进和发展。
发明内容
本发明的目的在于提供一种量子点及其制备方法,旨在解决现有InP量子点制备方法存在的量子点粒径不均匀、发光效率差等问题。
本发明是这样实现的:一种量子点的制备方法,至少包括以下步骤:
利用ZnP纳米团簇和第一InP核制备第二InP核;
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