[发明专利]一种双层电磁屏蔽膜及其制备方法

权利要求书

1.一种双层电磁屏蔽膜，其特征在于：包括载体膜(1)、涂布于载体膜(1)上的第一绝缘涂料层(2)、涂布于第一绝缘涂料层(2)上的第二绝缘涂料层(3)，复合于第二绝缘涂料层(3)上的金属层(4)，涂布于金属层(4)上的电磁波屏蔽涂层(5)，设于电磁波屏蔽涂层(5)上的离型保护膜(6)；

所述载体膜(1)是哑光离型膜；所述第一绝缘涂料层(2)的涂料是耐磨型的丙烯酸酯涂料或聚氨酯涂料，耐磨性大于1000次，厚度为1～2μm；所述第二绝缘涂料层(3)的涂料是高填充、高韧性的丙烯酸酯涂料或聚氨酯涂料或橡胶涂料，耐弯折次数大于80000，厚度为2～7μm；所述金属层(4)是压延金属箔制成的厚度为3～9μm的薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种双层电磁屏蔽膜，其特征在于：所述金属层(4)是压延铜箔或压延铝箔或压延银箔。

3.根据权利要求1所述的一种双层电磁屏蔽膜，其特征在于：所述电磁波屏蔽涂层(5)是反射型屏蔽涂层(51)；所述反射型屏蔽涂层(51)的涂料包括反射层基体树脂和金属填料，所述反射层基体树脂是丙烯酸型或聚氨酯型或橡胶型，所述金属填料是片状银包玻璃或片状银包铜粉或树叶状银包铜粉或树枝状银包铜粉；所述金属填料在厚度方向尺寸为1～2μm，平面尺寸3～9μm，树叶状所述金属填料上有3～5个分叉；所述反射型屏蔽涂层(4)的反射层基体树脂与所述金属填料的比例为1:1.5～1:5。

4.根据权利要求1所述的一种双层电磁屏蔽膜，其特征在于：所述电磁波屏蔽涂层(5)是吸收型屏蔽涂层(52)；所述吸收型屏蔽涂层(52)包括吸收层基体树脂10～50份、聚吡咯，聚苯胺，聚噻吩中的一种或几种10～30份、乙炔炭黑，碳化硅，铁氧体中的一种或几种20～80份混合制成，所述吸收层基体树脂是丙烯酸型或聚氨酯型或橡胶型。

5.根据权利要求1所述的一种双层电磁屏蔽膜，其特征在于：所述电磁波屏蔽涂层(5)包括反射型屏蔽涂层(51)和设于所述反射型屏蔽涂层(51)上的吸收型屏蔽涂层(52)；

所述反射型屏蔽涂层(51)的涂料包括反射层基体树脂和金属填料，所述反射层基体树脂是丙烯酸型或聚氨酯型或橡胶型，所述金属填料是片状银包玻璃或片状银包铜粉或树叶状银包铜粉或树枝状银包铜粉；所述金属填料在厚度方向尺寸为1～2μm，平面尺寸3～9μm，树叶状所述金属填料上有3～5个分叉；所述反射型屏蔽涂层(51)的反射层基体树脂与所述金属填料的比例为1:1.5～1:5；

所述吸收型屏蔽涂层(52)包括吸收层基体树脂10～50份、聚吡咯，聚苯胺，聚噻吩中的一种或几种10～30份、乙炔炭黑，碳化硅，铁氧体中的一种或几种20～80份混合制成，所述吸收层基体树脂是丙烯酸型或聚氨酯型或橡胶型。

6.根据权利要求3或5所述的一种双层电磁屏蔽膜，其特征在于：所述反射型屏蔽涂层(51)的反射层基体树脂是丙烯酸型基体树脂，配方如下：

(1)按重量取丙烯酸7～15份、丙烯腈35～50份、丙烯酸丁酯20～30份、丙烯酸羟乙酯20～30份，将上述原料在60～80℃下反应10～20h，经过聚合制得丙烯酸树脂III；制得丙烯酸树脂III分子量5～7万；

(2)按重量取上述丙烯酸树脂III 50～70份，双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、酚醛环氧树脂等多官能团环氧树脂中的一种或几种10～30份，双氰氨5～10份，二氨基二苯砜5～10份，均匀搅拌，制得丙烯酸型反射层基体树脂。