[发明专利]一种触摸屏、显示装置及触摸屏的制备方法在审
申请号: | 201810827825.9 | 申请日: | 2018-07-25 |
公开(公告)号: | CN109032408A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 钟腾飞;庞斌;李媛;许世峰;何敏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绝缘介质层 遮光层 触摸屏 衬底基板 垂直投影 可视区域 显示装置 制备 金属图案层 抗静电击穿 所在区域 整体绝缘 介质层 击穿 色偏 与非 遮盖 覆盖 | ||
1.一种触摸屏,其特征在于,包括:
衬底基板;
形成于所述衬底基板且与非可视区域对应的遮光层;
形成于所述遮光层上的第一绝缘介质层;
形成于所述第一绝缘介质层上的第二绝缘介质层,其中,所述第二绝缘介质层在所述衬底基板上的垂直投影覆盖所述遮光层在所述衬底基板上的垂直投影;
形成于所述第二绝缘介质层上的第一金属图案层。
2.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,沿所述非可视区域朝向可视区域的方向,所述第二绝缘介质层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸大于所述遮光层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸。
3.根据权利要求2所述的触摸屏,其特征在于,沿所述非可视区域朝向可视区域的方向,所述第二绝缘介质层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸比所述遮光层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸大25μm~35μm。
4.根据权利要求1所述的触摸屏,其特征在于,还包括:
形成于所述第一金属图案层上的第三绝缘介质层;
形成于所述第三绝缘介质层上的第二金属图案层;
形成于所述第二金属图案层上的保护层。
5.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-4任一项所述的触摸屏。
6.一种触摸屏的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上涂覆阻光材料层,并对所述阻光材料层进行图案化处理形成与非可视区域对应的遮光层;
在所述遮光层上形成第一绝缘介质层;
在所述第一绝缘介质层上形成第二绝缘介质层,其中,所述第二绝缘介质层在所述衬底基板上的垂直投影覆盖所述遮光层在所述衬底基板上的垂直投影;
在所述第二绝缘介质层上形成金属层并进行图案化处理形成第一金属图案层。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,沿所述非可视区域朝向可视区域的方向,所述第二绝缘介质层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸大于所述遮光层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述在所述第一绝缘介质层上形成第二绝缘介质层具体包括:
在所述第一绝缘介质层上涂覆第二绝缘材料层;
采用制备所述遮光层的光罩对所述第二绝缘材料层进行曝光,且增加曝光量以使形成的所述第二绝缘介质层的边缘沿所述非可视区域朝向所述可视区域的方向超过所述遮光层的边缘;
去除所述第二绝缘材料层中未曝光的部分,形成所述第二绝缘介质层。
9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,沿所述非可视区域朝向所述可视区域的方向,所述第二绝缘介质层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸比所述遮光层在所述衬底基板上的垂直投影的宽度尺寸大25μm~35μm。
10.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,还包括:
在所述第一金属图案层上形成第三绝缘介质层;
在所述第三绝缘介质层上形成第二金属图案层;
在所述第二金属图案层上形成保护层。
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