[发明专利]一种冷藏式降低大米二次抛光初始温度的抛光机

说明书

本发明涉及大米抛光设备技术领域，尤其是一种冷藏式降低大米二次抛光初始温度的抛光机，经过在上抛光室底部设置降温箱，使得经过上抛光室抛光处理的大米进入到降温箱中，降低大米颗粒表面的温度，避免大米因为高温导致的脆化、粉化现象，提高了大米颗粒的韧性和柔性，确保大米进入下抛光室后的温度较低，进而在下抛光室抛光过程中，其碎米粒大幅度的降低，提高了大米加工成品率。

技术领域

本发明涉及大米抛光设备技术领域，尤其是一种冷藏式降低大米二次抛光初始温度的抛光机。

背景技术

大米抛光机是现有粮食加工普遍采用的设备，被广泛应用于粮食加工中。现有的抛光机均是采用抛光辊对大米进行抛光，采用抛光辊对大米进行抛光时，会存在一定的碾压力，容易产生碎米，并且抛光时容易导致抛光不均，米粒部分表面会过度抛光，而部分表面未被抛光。鉴于该技术问题，有研究者设计了一种抛光丸粒式大米抛光机(图1)，例如专利号为201410517772.2所示，采用抛光丸粒对大米进行抛光，能较好的避免碾压而产生碎米，同时也能够均匀地对大米进行抛光，较好地避免了大米抛光不均。

可是，由于大米抛光过程中，是大米与抛光机中抛光丸进行摩擦抛光，导致大米因摩擦生热，使得大米颗粒脆化、粉化，造成大米在抛光过程中，产生大量的碎米，造成碎米率较高。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述技术问题，本发明提供一种冷藏式降低大米二次抛光初始温度的抛光机。

具体是通过以下技术方案得以实现的：

并在现有技术的基础上(如图1所示)，经过现有的抛光丸粒式大米抛光机进行改进处理，在上筛的底部设置有降温箱，降温箱底面上设置有下米孔以及能够关闭下米孔的开关，开关能够随着搅拌轴的转动而转动。使得大米在经过上抛光室抛光处理之后，进入到降温箱中，进行短暂降温处理，使得大米颗粒表面的温度降低，降低了抛光过程的碎米粒；并且经过对比试验发现，比采用现有技术中的抛光设备进行抛光大米处理，其碎米粒降低了20％。

与现有技术相比，本发明创造的技术效果体现在：

经过在上抛光室底部设置降温箱，使得经过上抛光室抛光处理的大米进入到降温箱中，降低大米颗粒表面的温度，避免大米因为高温导致的脆化、粉化现象，提高了大米颗粒的韧性和柔性，确保大米进入下抛光室后的温度较低，进而在下抛光室抛光过程中，其碎米粒大幅度的降低，提高了大米加工成品率。

附图说明

图1为现有技术中大米丸粒式抛光机结构示意图。

图2为本发明冷藏式降低大米二次抛光初始温度的抛光机结构示意图。

图3为搅拌叶与毛刷连接俯视示意图。

图4为降温箱底板与开关俯视结构示意图。

1-开关 2-搅拌叶 3-上筛 4-粗球 5-降温箱 6-下米槽 7-搅拌轴 8-碎米筛 9-出米口 10-电机 11-碎米箱 12-米粒箱 13-下筛 14-细球 15-粉尘出口 16-毛刷 17-粉尘筛 18-抛光筒 19-粉尘腔 20-支架 21-冷藏部 22-米仓 23-底板 24-下米孔。

具体实施方式

下面结合具体的实施方式来对本发明的技术方案做进一步的限定，但要求保护的范围不仅局限于所作的描述。