[发明专利]光学成像系统有效
申请号: | 201810834468.9 | 申请日: | 2018-07-26 |
公开(公告)号: | CN109307923B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 张永明;赖建勋;刘燿维 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 官建红 |
地址: | 中国台湾中部科学工业*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:
第一透镜,具有负屈光力;
第二透镜,具有正屈光力;
第三透镜,具有屈光力;
第四透镜,具有正屈光力;
第五透镜,具有正屈光力;
第六透镜,具有负屈光力;
第一成像面,其为特定垂直于光轴的可见光像平面,并且其中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值;以及
第二成像面,其为特定垂直于光轴的红外光像平面,并且其中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值;
其中所述光学成像系统具有屈光力的透镜为六个,所述光学成像系统于所述第一成像面上具有最大成像高度HOI,所述第一透镜至所述第六透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4、f5、f6,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述第一成像面于光轴上具有距离HOS,所述第一透镜物侧面至所述第六透镜像侧面于光轴上具有距离InTL,所述光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,所述第一成像面与所述第二成像面间于光轴上的距离为FS,所述第一透镜至所述第六透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6,前述ETP1至ETP6的总和为SETP,所述第一透镜至所述第六透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4、TP5以及TP6,前述TP1至TP6的总和为STP,其满足下列条件:1.0≤f/HEP≤10.0;0degHAF≤150deg;0.2≤SETP/STP1;∣FS∣≤60μm;以及1≤HOS/HOI≤15;
其中,还包括光圈,于所述光圈至所述第一成像面于光轴上具有距离InS,所述红外光的波长介于700nm至1300nm并且所述第一空间频率以SP1表示,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1以及SP1≤55cycles/mm。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:1≤HOS/HOI≤10。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,在所述第一透镜至所述第六透镜中至少一透镜为玻璃材质。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:∣FS∣≤10μm。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第一成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第六透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≤EIN/ETL1。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜至所述第六透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6,前述ETP1至ETP6的总和为SETP,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第六透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列公式:0.2≤SETP/EIN1。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第六透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第一成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,所述第六透镜像侧面上与光轴的交点至所述第一成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.1。
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