[发明专利]锍盐、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法

权利要求书

1.包含衍生自锍盐的重复单元的聚合物，所述锍盐包含具有式(1a-1)的阴离子和具有式(1b-1)或(1c-1)的锍阳离子：

其中，Rf¹和Rf²各自独立地为氢、氟或三氟甲基，n为0至5的整数，L¹为含有醚键、硫醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键的C₁-C₃₀直链、支链或环状的二价基团，R⁴为可以含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状的一价烃基，s为1至5的整数，t为0至4的整数，且1≤s+t≤5，

其中，R¹、R²和R³各自独立地为卤素、硝基、氰基或可以含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状的一价烃基，当包括多个基团R¹、R²或R³时，两个相邻的基团R¹、R²或R³可以键合在一起以与它们所连接的碳原子形成环，X为单键或-O-、-NH-、-S-、-SO-、-SO₂-、-CO-或-CH₂-，p为0至4的整数，q和r各自独立地为0至5的整数，q’和r’各自独立地为0至4的整数，L²为可以含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状的二价烃基，R^A各自独立地为氢或甲基。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其中所述阴离子具有式(1a-2)：

其中，R⁴为可以含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状的一价烃基，s为1至5的整数，t为0至4的整数，且1≤s+t≤5，L³为可以含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状的二价烃基，u和v各自独立地为0或1。

3.根据权利要求1所述的聚合物，其另外包含具有式(a)、(b)或(c)的重复单元：

其中，R^B为氢、氟、甲基或三氟甲基，Z^A为单键、亚苯基、亚萘基或与聚合物骨架键合的-C(＝O)-O-Z^B-，其中Z^B为可以含有羟基、醚键、酯键或内酯环的C₁-C₁₀直链、支链或环状的亚烷基，或亚苯基或亚萘基，X^A为酸不稳定性基团，R¹¹为卤素、硝基、氰基或可以含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状的一价烃基，w为0至4的整数，x为1或2，1≤w+x≤5。

4.根据权利要求1所述的聚合物，其另外包含具有式(d)或(e)的重复单元：

其中，R^B为氢、氟、甲基或三氟甲基，R¹¹为卤素、硝基、氰基或可以含有杂原子的C₁-C₂₀直链、支链或环状的一价烃基，Y^A为氢或具有选自羟基、氰基、羰基、羧基、醚键、酯键、磺酸酯键、碳酸酯键、内酯环、磺内酯环和羧酸酐中的至少一个结构的极性基团，y为0至4的整数。

5.抗蚀剂组合物，其包含含有根据权利要求1所述的聚合物的基础聚合物。

6.根据权利要求5所述的抗蚀剂组合物，其还包含有机溶剂。

7.根据权利要求5所述的抗蚀剂组合物，其还包含不含聚合性基团的光致产酸剂。

8.根据权利要求5所述的抗蚀剂组合物，其还包含酸扩散抑制剂。