[发明专利]掩模板、蒸镀掩模板组件及其制造方法、蒸镀设备

说明书

本发明提供了一种掩模板、蒸镀掩模板组件及其制造方法、蒸镀设备，所述掩模板，用于对显示基板进行蒸镀；所述掩模板包括一掩模板本体，所述掩模板本体的中部区域设有多个开口部，所述开口部对应显示基板的显示区域，在所述掩模板本体的周边区域设有膜厚检测开口，所述膜厚检测开口至少包括用于检测显示基板上蒸镀形成的第一膜层的厚度的第一膜厚检测开口、及用于检测显示基板上蒸镀形成的第二膜层的厚度的第二膜厚检测开口。本发明提供的掩模板、蒸镀掩模板组件及其制造方法、蒸镀设备，能够提高掩模板的通用性，节省开模成本。

技术领域

本发明涉及显示器制造技术领域，尤其涉及一种掩模板、蒸镀掩模板组件及其制造方法、蒸镀设备。

背景技术

AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)显示的制造方式有LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)背板+蒸镀模式，和半导体氧化物背板+白光有机发光二极管(WhiteOrganic Light Emitting Diode，WOLE D)+彩膜的方式。其中前者主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应显示器和电视等应用。

现在LTPS背板+蒸镀方式已经初步成熟，实现了量产。蒸镀方式指通过蒸镀将OLED材料按照预定程序蒸镀到LTPS背板上，利用掩模板上的图形，形成红绿蓝器件。在蒸镀的有机材料中，发光层需要采用FMM掩模板(Fine Metal Mask，金属精细掩模板)进行蒸镀，而共通层则需要采用Open Mask(开放式掩模板)进行蒸镀。空穴传输层和电子传输层均属于共通层。

采用Open Mask对共通层进行蒸镀时，以空穴传输层和电子传输层为例，需要采用两块Mask来分别蒸镀空穴传输层和电子传输层。用于蒸镀空穴传输层的Mask上在AA区(有效显示区域)设置有开口区，开口区的图案形状与显示母板上的显示区域形状对应，在边缘区设有用于测量空穴传输层的膜厚Teg(Test element group，测试式元件组)开口；用于蒸镀电子传输层的Mask上在AA区(有效显示区域)设置有开口区，开口区的图案形状与显示母板上的显示区域形状对应，设置有用于测量电子传输层的膜厚Teg(Test element group，测试式元件组)开口。现阶段蒸镀空穴传输层和电子传输层材料采用的Open Mask在AA区的开口及尺寸完全一样，仅膜厚Teg开口有位置不同。但是需要采用两块掩模板，两块掩模板需分别开模，开模费用成本高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模板、蒸镀掩模板组件及其制造方法、蒸镀设备，能够提高掩模板的通用性，节省开模成本。

本发明所提供的技术方案如下：

一种掩模板，用于对显示基板进行蒸镀；所述掩模板包括一掩模板本体，所述掩模板本体的中部区域设有多个开口部，所述开口部对应显示基板的显示区域，在所述掩模板本体的周边区域设有膜厚检测开口，所述膜厚检测开口至少包括用于检测显示基板上蒸镀形成的第一膜层的厚度的第一膜厚检测开口、及用于检测显示基板上蒸镀形成的第二膜层的厚度的第二膜厚检测开口。

进一步的，所述第一膜厚检测开口至少分布于所述掩模板本体的相对的第一侧和第二侧，所述第二膜厚检测开口至少分布于所述掩模板本体的所述第一侧和所述第二侧。

一种蒸镀掩模板组件，包括：

中空的框架；

如上所述的掩模板，所述掩模板本体的四周固定于所述框架上；

及，遮挡条，所述遮挡条设置于所述掩模板本体的周边区域，且所述遮挡条上设有开孔部和遮挡部，所述开孔部与所述第一膜厚检测开口正对，所述第二膜厚检测开口被所述遮挡部遮挡。

进一步的，所述遮挡条的两端焊接于所述框架的相对设置的两边框上。