[发明专利]二维材料电学性能调控系统及其调控方法

权利要求书

1.一种二维材料电学性能调控系统(100)，包括：

支撑平台(10)，用于放置表面覆盖有二维材料层(110)的基底，所述基底表面还覆盖有与所述二维材料层层叠设置的绝缘层(111)和光学调制层(112)，所述绝缘层(111)设于所述二维材料层(110)和所述光学调制层(112)之间；

控制装置(20)；

光源装置(30)，与所述控制装置(20)电连接，所述控制装置(20)用于控制所述光源装置(30)发光，以照射所述光学调制层(112)，从而实现对所述二维材料层(110)中载流子的调控；

其中，所述光学调制层(112)为深紫外曝光胶。

2.如权利要求1所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，所述光源装置(30)包括：

三维移动光学支架(31)；

发光器件(32)，所述发光器件(32)固定于所述三维移动光学支架(31)。

3.如权利要求2所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，所述发光器件(32)发出的光的中心波长低于250nm。

4.如权利要求2所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，所述发光器件(32)为发光二极管。

5.如权利要求1所述的二维材料电学性能调控系统，其特征在于，还包括电源装置(40)，所述电源装置(40)与所述控制装置(20)和所述光源装置(30)电连接。

6.一种二维材料电学性能调控系统的调控方法，包括：

S100，提供一基底，所述基底表面覆盖有所述二维材料层(110)；

S200，在所述二维材料层(110)远离所述基底的表面依次形成绝缘层(111)和光学调制层(112)；

S300，利用激光对所述光学调制层(112)进行光照，以对所述二维材料层(110)进行载流子调控；

其中，所述光学调制层(112)为深紫外曝光胶。

7.如权利要求6所述的二维材料电学性能调控系统的调控方法，其特征在于，所述S200包括：

S210，在所述二维材料层(110)远离所述基底的表面旋涂绝缘层(111)；

S220，在所述绝缘层(111)远离所述二维材料层(110)的表面旋涂光学调制层(112)；

S230，将旋涂了所述绝缘层(111)和所述光学调制层(112)的所述二维材料层(110)在160℃-180℃进行烘烤。

8.如权利要求6所述的二维材料电学性能调控系统的调控方法，其特征在于，在所述S200中，所述绝缘层(111)的厚度为200nm-400nm。

9.如权利要求6所述的二维材料电学性能调控系统的调控方法，其特征在于，所述光学调制层(112)的厚度为260nm-360nm。

10.如权利要求6所述的二维材料电学性能调控系统的调控方法，其特征在于，所述绝缘层(111)为PMMA EL6、PMMA EL7、PMMA EL8、PMMA EL9或PMMA EL10胶。