[发明专利]掩膜模具及其制备三维结构的方法

权利要求书

1.一种掩膜模具，其特征在于：掩膜模具主要由衬底（1）、模具结构层（2）、掩膜层（3）构成，所述衬底（1）具有透光性，所述掩膜层（3）具有遮光性，所述掩膜层（3）的全部图案或部分图案与所述模具结构层（2）的全部图案或部分图案相同或相似。

2.根据权利要求1所述的掩膜模具，其特征在于：所述衬底（1）的材料和所述模具结构层（2）的材料相同。

3.根据权利要求1所述的掩膜模具，其特征在于：所述模具结构（2）和所述掩膜层（3）为同一结构。

4.根据权利要求1所述的掩膜模具，其特征在于：所述衬底（1）的材料为玻璃或高分子材料，所述掩膜层（3）的材料为金属或金属化合物或陶瓷材料或高分子材料或上述材料的组合。

5.根据权利要求1所述的掩膜模具，其特征在于：所述掩膜层（3）的厚度小于1厘米，所述掩膜层（3）的图案的最小特征尺寸小于1厘米，所述模具结构层（2）的厚度小于5厘米，所述模具结构层（2）的图案的最小特征尺寸小于1厘米。

6.一种使用权利要求1所述的掩膜模具制备三维结构的方法，其特征在于：在制备三维结构过程中包含以下步骤：步骤一，在所述的掩膜模具的模具结构层（2）内填充光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料，步骤二、对步骤一中已填充的所述光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料进行曝光，使所述光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料固化，步骤三，使步骤二中所述的已固化的光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料从掩膜模具中脱离；在所述步骤二中，所述曝光光线的方向为从所述掩膜模具的衬底（1）指向所述掩膜模具的模具结构层（2）。

7.根据权利要求6所述的制备三维结构的方法，其特征在于：在实施所述步骤二前，还包含以下步骤：将预制的结构件贴近所述掩模模具，使所述预制的结构件与所述已填充的光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料接触；在完成所述步骤二后，所述预制的结构件同所述已固化的光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料连接在一起；在完成所述步骤三后所述预制的结构件依然同所述已固化的光固化材料或光固化材料与其他材料的混合材料连接在一起。

8.根据权利要求6所述的制备三维结构的方法，其特征在于：所述混合材料包含导电功能材料或包含固化后易腐蚀的聚合物材料。