[发明专利]滤除图形匹配度误报错的方法有效
申请号: | 201810840252.3 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN109190159B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 顾婷婷;陈翰;张辰明 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G06F30/39 | 分类号: | G06F30/39 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 栾美洁 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 图形 匹配 度误报错 方法 | ||
1.一种滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1,利用PM技术进行SRAM图形匹配度检查,输出匹配区域;
步骤2,在匹配区域中设置检查区域;
步骤3,检查区域去除矩形结构的匹配区域形成中间图形temp1;
步骤4,检查区域去除所有匹配区域形成中间图形temp2;
步骤5,检查区域去除所有匹配区域的延伸图形形成中间图形temp3,所述延伸图形是将匹配区域内的空白全部填充并沿着图形所在最大边界填充成的矩形图形;
步骤6,中间图形temp1与中间图形temp2进行异或运算形成中间图形temp4;
步骤7,中间图形temp2与中间图形temp4有共同边的图形形成中间图形temp5;
步骤8,中间图形temp5去除中间图形temp3形成需要人工审核的第一类图形;
步骤9,在中间图形temp2中选取需要人工审核的第二类图形,所述第二类图形为中间图形temp2中宽度大于沟道免检范围b的图形;
步骤10,步骤8形成的第一类图形和步骤9形成的第二类图形的合集为最终需进一步检查的图形。
2.根据权利要求1所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,在步骤2中,所述检查区域的各边界与匹配区域的相邻边界之间的间距为1μm~3μm。
3.根据权利要求1所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,所述沟道免检范围b的取值范围为1.5μm~3.5μm。
4.根据权利要求1所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,在步骤1中,所述匹配区域是由一个个匹配成功的矩形图形连接而成。
5.根据权利要求4所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,所述匹配区域包括矩形区域和/或非矩形区域。
6.根据权利要求5所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,所述非矩形区域中的不匹配图形为设定好的匹配单元尺寸或多个匹配单元的组合结构。
7.根据权利要求6所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,所述匹配单元是以设定好的矩形结构尺寸为准。
8.根据权利要求1所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,步骤1进一步包括:
步骤S11,在整体版图中选取SRAM区域;
步骤S12,在SRAM区域中设定进行图形匹配度检查的检查区域;
步骤S13,对检查区域进行图形匹配度检查,输出匹配区域。
9.根据权利要求8所述的滤除图形匹配度误报错的方法,其特征在于,在步骤S12中,检查区域的各边界与SRAM区域的相邻边界之间的间距为1μm~3μm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810840252.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。