[发明专利]光掩模检查方法、光掩模制造方法及光掩模检查装置

权利要求书

1.一种光掩模检查方法，测量在光掩模的转印用图案中包含的相移部的相位特性，该光掩模检查方法包括：

在具备投影光学系统的检查装置中设置所述光掩模的工序；

光学像数据取得工序，将所设置的所述光掩模曝光，并通过所述投影光学系统将所述相移部的光学像投影到摄像面上，从而取得光学像数据；以及

运算工序，利用所取得的所述光学像数据而求出所述相移部所具有的相移量，

在所述光学像数据取得工序中，使所述光掩模、所述投影光学系统及所述摄像面当中的至少一部分在光轴方向上移动，而取得多个聚焦状态的各个状态下的所述光学像数据，

在所述运算工序中，利用所取得的所述多个聚焦状态的所述光学像数据求出所述相移量。

2.根据权利要求1所述的光掩模检查方法，其中，

在所述运算工序中，根据所述光学像数据针对所取得的所述多个聚焦状态的各个状态求出CD值，并根据所述光学像的CD值求出所述相移量。

3.根据权利要求2所述的光掩模检查方法，其中，

在所述运算工序中，根据所述CD值成为最大值的聚焦状态与所述相移量之间的相关性而求出所述相移量。

4.根据权利要求2或3所述的光掩模检查方法，其特征在于，

在所述运算工序之前，具备如下的前工序：针对所述转印用图案，掌握通过所述投影光学系统而形成的光学像的CD值成为最大值的聚焦状态与所述相移部所具备的相移量之间的相关性。

5.根据权利要求4所述的光掩模检查方法，其中，

所述前工序包括如下工序：针对所述转印用图案，掌握通过所述投影光学系统而形成的光学像的聚焦状态与由所述聚焦状态引起的所述光学像的CD值的变动之间的相关性。

6.根据权利要求1～3中的任一项所述的光掩模检查方法，其中，

所述转印用图案包括孤立图案。

7.根据权利要求1～3中的任一项所述的光掩模检查方法，其中，

所述转印用图案包括孔图案。

8.根据权利要求1～3中的任一项所述的光掩模检查方法，其中，

所述相移部是在构成所述光掩模的透明基板上形成曝光光透射率T为2～10％、相移量φ为170～190度的相移膜而成的。

9.一种光掩模制造方法，在该光掩模制造方法中，包括权利要求1～8中的任一项所述的光掩模检查方法。

10.一种光掩模检查装置，其用于测量在光掩模的转印用图案中包含的相移部的相位特性，其包括：

掩模保持单元，其保持作为被检体的光掩模；

光源，其射出光；

照明光学系统，其对由所述光源射出的光进行引导，使该光照射到由所述掩模保持单元保持的光掩模上；

投影光学系统，其接收透过了所述光掩模的光束而将该光束引导至摄像面；

光学像取得部，其是在所述摄像面上设置摄像单元而成的；

驱动部，其用于使所述光掩模、所述投影光学系统及所述摄像面中的至少一部分在光轴方向上移动，而使所述摄像面处的聚焦状态发生变化；

计测部，其计测通过所述驱动部使所述光掩模、所述投影光学系统及所述摄像面中的至少一部分移动时的移动距离；以及

运算部，其根据所述光学像取得部取得的光学像数据来求出所述摄像面上的光学像的CD值，并根据所述计测部计测出的移动距离和所述CD值来运算所述相移部的相移量。

11.根据权利要求10所述的光掩模检查装置，其中，

所述投影光学系统包括物镜，

所述驱动部使所述物镜在光轴方向上移动。

12.根据权利要求10或11所述的光掩模检查装置，其中，

所述运算部具备存储部，该存储部预先存储有所述CD值成为最大值的所述移动距离与所述相移量之间的相关性。

13.根据权利要求10或11所述的光掩模检查装置，其中，

所述投影光学系统具备自动聚焦机构。