[发明专利]有机发光器件有效

专利信息
申请号: 201810842607.2 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN109326733B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 李晟熏;金象同;郭丞燕;具贤;李贞仁;黄圭荣 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金拟粲;王华芹
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 发光 器件
【权利要求书】:

1.有机发光器件,包括:

第一电极,

面对所述第一电极的第二电极,以及

设置在所述第一电极和所述第二电极之间的有机层,

其中

所述有机层包括发射层,

所述发射层包括电子传输主体、空穴传输主体、和掺杂剂,

所述掺杂剂包括有机金属化合物,且所述有机金属化合物不包括铱,

所述有机发光器件满足如下的条件:LUMO(掺杂剂)-LUMO(主体-E)≥0.15eV,和LUMO(主体-E)-HOMO(主体-H)T1(掺杂剂),和

所述掺杂剂满足如下的条件:T1(掺杂剂)≤E能隙(掺杂剂)≤T1(掺杂剂)+0.5电子伏,

其中LUMO(掺杂剂)表示所述发射层中的掺杂剂的以电子伏表示的最低未占分子轨道(LUMO)能级,

LUMO(主体-E)表示所述发射层中的电子传输主体的以电子伏表示的LUMO能级,

HOMO(主体-H)表示所述发射层中的空穴传输主体的以电子伏表示的最高占据分子轨道(HOMO)能级,

T1(掺杂剂)表示所述发射层中的掺杂剂的以电子伏表示的三线态能级,

LUMO(掺杂剂)、LUMO(主体-E)、和HOMO(主体-H)各自表示使用二茂铁作为参比材料通过微分脉冲伏安法测量的负的值,

T1(掺杂剂)为由使用发光测量设备测量的所述掺杂剂的磷光光谱的峰值波长计算的值,

E能隙(掺杂剂)为在所述掺杂剂的HOMO(掺杂剂)和LUMO(掺杂剂)之间的差,和

HOMO(掺杂剂)表示所述掺杂剂的HOMO能级,其为使用二茂铁作为参比材料通过微分脉冲伏安法测量的负的值。

2.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件满足如下的条件:0.15eV≤LUMO(掺杂剂)-LUMO(主体-E)≤0.6电子伏。

3.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件满足如下的条件:0电子伏[LUMO(主体-E)-HOMO(主体-H)]-T1(掺杂剂)≤0.5电子伏。

4.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件满足如下的条件:LUMO(掺杂剂)LUMO(主体-H),其中LUMO(主体-H)表示所述发射层中的空穴传输主体的以电子伏表示的LUMO能级,其为使用二茂铁作为参比材料通过微分脉冲伏安法测量的负的值。

5.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件满足如下的条件:LUMO(主体-E)LUMO(主体-H),其中LUMO(主体-H)表示所述发射层中的空穴传输主体的以电子伏表示的LUMO能级,其为使用二茂铁作为参比材料通过微分脉冲伏安法测量的负的值。

6.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件满足如下的条件:LUMO(主体-E)LUMO(掺杂剂)LUMO(主体-H),其中LUMO(主体-H)表示所述发射层中的空穴传输主体的以电子伏表示的LUMO能级,其为使用二茂铁作为参比材料通过微分脉冲伏安法测量的负的值。

7.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件满足如下的条件:HOMO(主体-E)HOMO(主体-H),其中HOMO(主体-E)表示所述发射层中的电子传输主体的以电子伏表示的HOMO能级,其为使用二茂铁作为参比材料通过微分脉冲伏安法测量的负的值。

8.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述掺杂剂为包括铂(Pt)、锇(Os)、钛(Ti)、锆(Zr)、铪(Hf)、铕(Eu)、铽(Tb)、铥(Tm)、铑(Rh)、钌(Ru)、铼(Re)、铍(Be)、镁(Mg)、铝(Al)、钙(Ca)、锰(Mn)、钴(Co)、铜(Cu)、锌(Zn)、镓(Ga)、锗(Ge)、钯(Pd)、银(Ag)、或金(Au)的有机金属化合物。

9.如权利要求1所述的有机发光器件,其中所述掺杂剂为具有正方形平面配位结构的有机金属化合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810842607.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top