[发明专利]基板反转装置、基板处理装置及基板支撑装置以及其方法

说明书

本发明提供基板反转装置、基板处理装置以及基板支撑装置和基板反转方法、基板处理方法以及基板支撑方法。基板支撑装置的支撑机构与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑基板。支撑机构具备一对导向部和切换机构。一对导向部在基板的宽度方向的两侧与基板的周缘部接触。切换机构通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换一对导向部的位置，从而变更一对导向部与基板与接触状态。一对导向部的每一个具备第一接触区域和第二接触区域。第二接触区域在上下方向以及宽度方向上位于与第一接触区域不同的位置。在基板支撑装置中，能够配合基板的状态，在第一接触区域与第二接触区域之间切换导向部的与基板的接触区域。

技术领域

本发明涉及基板反转装置、基板处理装置以及基板支撑装置和基板反转方法、基板处理方法以及基板支撑方法。

背景技术

以往，在半导体基板(以下，简称为“基板”。)的制造工序中，对基板实施多种处理。例如，在日本特开2014－3080号公报(文献1)的基板处理装置中，在对基板的背面进行擦洗处理后，对基板的表面进行擦洗处理。在该基板处理装置中，将表面朝向上侧的基板搬入分度区，在反转交接部将基板的上下反转，在此基础上，进行背面的清洗处理。背面的清洗处理结束后的基板在配置于反转交接部的上方的反转单元将基板的上下反转，在此基础上，进行表面的清洗处理。清洗处理结束后的基板载置于配置在反转交接部与反转单元之间的载置单元，且被搬向分度区。在反转交接部的基板反转装置中，通过支撑机构以水平姿态支撑基板，通过夹持反转机构夹持并反转被支撑机构支撑着的基板。支撑机构通过使四个支撑部件的水平面抵接于基板的下表面来将基板以水平姿态支撑。

另外，在文献1的基板处理装置中，反转未处理基板的反转交接部和反转清洗完毕的已处理基板的反转单元是独立设置的。因此，存在基板处理装置大型化的问题。另一方面，若不管基板的状态(例如，未处理或已处理)如何都通过同一基板反转装置进行基板的反转，则存在以下问题，即，未处理基板的污垢、颗粒等在基板反转装置中附着于支撑基板的支撑部件(即，导向部)而转移至已处理基板。

发明内容

本发明涉及基板反转装置，目的在于配合基板的状态来切换导向部上的与基板的接触区域。

本发明的优选的一方案的基板反转装置具备：与水平姿态的基板的周缘部接触并从下方支撑上述基板的支撑机构；以及夹持被上述支撑机构支撑的上述基板并使上述基板反转的夹持反转机构。上述支撑机构具备：在上述基板的宽度方向的两侧与上述基板的周缘部接触的一对导向部；导向移动机构，其使上述一对导向部在与上述基板接触的接触位置与相比上述接触位置从上述基板离开了的退避位置之间进退；以及切换机构，其通过在第一接触位置与第二接触位置之间切换位于上述接触位置的上述一对导向部的位置，从而变更上述一对导向部与上述基板的接触状态。上述一对导向部的每一个具备：在上述第一接触位置与上述基板的周缘部接触的第一接触区域；以及在上下方向以及上述宽度方向上位于与上述第一接触区域不同的位置，且在上述第二接触位置与上述基板的周缘部接触的第二接触区域。根据该基板反转装置，能够配合基板的状态，切换导向部的与基板的接触区域。

优选的是，在上述一对导向部的每一个中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠下侧且上述宽度方向内侧。上述切换机构通过变更上述一对导向部的上述宽度方向的距离，从而在上述第一接触位置与上述第二接触位置之间切换上述一对导向部的位置。

优选的是，在上述一对导向部中的一方的导向部中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠下侧且上述宽度方向内侧。在上述一对导向部中的另一方的导向部中，上述第二接触区域位于比上述第一接触区域靠上侧且上述宽度方向外侧。上述切换机构通过以沿水平方向延伸的旋转轴为中心旋转上述一对导向部旋转，从而在上述一对导向部的上述第一接触区域位于上述上下方向的相同位置的上述第一接触位置与上述一对导向部的上述第二接触区域位于上述上下方向的相同位置的上述第二接触位置之间切换上述一对导向部的位置。