[发明专利]一种框架结构有效

专利信息
申请号: 201810843689.2 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN108611598B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 李冬伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 框架结构
【权利要求书】:

1.一种框架结构,其特征在于,包括框架、制作条以及支撑件,所述框架的内边缘上形成有定位槽,所述制作条可拆卸地安装于所述定位槽,所述制作条上形成有沟槽,所述支撑件固定在沟槽内,所述支撑件形成支撑掩模版的支撑平面;

所述沟槽的深度不小于所述支撑件的厚度;

所述制作条形成用于焊接掩模版的焊接平面;

所述制作条包括多个间隔设置的制作片,且相邻两个制作片之间的间隙形成所述沟槽。

2.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条焊接或粘结在所述定位槽内。

3.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条采用金属材料制备。

4.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条采用Invar36制备。

5.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述制作条的厚度不小于所述支撑件的厚度。

6.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述定位槽的深度大于所述制作条的厚度。

7.根据权利要求1所述的框架结构,其特征在于,所述支撑件包括多个第一支撑件和多个第二支撑件,所述第一支撑件和所述第二支撑件分别平行于所述框架垂直相交的两个侧边,所述第一支撑件和所述第二支撑件分别固定在沟槽内,多个第二支撑件配合形成所述支撑平面,多个所述第一支撑件用于将所述支撑平面划分为多个遮挡区域。

8.根据权利要求7所述的框架结构,其特征在于,所述第一支撑件为覆盖条,所述覆盖条焊接在所述沟槽内。

9.根据权利要求7所述的框架结构,其特征在于,所述第二支撑件为支撑条,所述支撑条焊接在所述沟槽内。

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