[发明专利]表面波等离子体装置

权利要求书

1.一种表面波等离子体装置，其特征在于，包括缝隙板和谐振板，所述缝隙板和所述谐振板沿电磁波的传输方向依次叠置；

所述缝隙板具有多个缝隙，所述缝隙用于供所述电磁波耦合至反应腔室；在所述谐振板的远离反应腔室的一个表面上形成有凹槽，所述凹槽中可分离的填充有介质结构，所述介质结构遮挡部分所述缝隙，以用于调节所述反应腔室中在不同工艺气体下的等离子体分布均匀性；

所述介质结构包括至少两种介质单元，不同种所述介质单元由不同种介质材料制成；

所述介质结构包括多种所述介质单元，每种所述介质单元的横截面形状均为圆环形，多种所述介质单元沿所述凹槽的深度方向依次叠置；或者，所述介质结构包括两种所述介质单元，两种所述介质单元交替排布形成圆环形介质板。

2.根据权利要求1所述的表面波等离子体装置，其特征在于，所述凹槽的数量为至少一个，且沿所述谐振板的周向环绕形成环形凹槽，所述凹槽的纵截面呈矩形。

3.根据权利要求2所述的表面波等离子体装置，其特征在于，所述凹槽的数量为多个，多个所述凹槽沿所述谐振板的径向间隔设置。

4.根据权利要求2所述的表面波等离子体装置，其特征在于，所述凹槽的内径的二分之一大于微波在所述谐振板中的一个波长；所述凹槽的径向宽度小于微波在所述谐振板中的一个波长；所述凹槽的深度是微波在所述谐振板中的二分之一波长或者四分之一波长的整数倍。

5. 根据权利要求4所述的表面波等离子体装置，其特征在于，所述凹槽的内径的二分之一的取值范围在30 mm ~150mm；所述凹槽的径向宽度的取值范围在20 mm ~100mm。

6. 根据权利要求5所述的表面波等离子体装置，其特征在于，所述凹槽的深度的取值范围在10 mm ~40mm。