[发明专利]应用于可延展电子器件中的导线以及可延展电子器件和制备方法有效
申请号: | 201810848155.9 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN110767349B | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 冯雪;付浩然;蒋晔 | 申请(专利权)人: | 浙江清华柔性电子技术研究院;清华大学 |
主分类号: | H01B7/00 | 分类号: | H01B7/00;H01B7/02;H01B7/06;H01B13/00;H01B13/008 |
代理公司: | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人: | 舒丁 |
地址: | 314006 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 延展 电子器件 中的 导线 以及 制备 方法 | ||
1.一种应用于可延展电子器件中的导线,用于连接所述可延展电子器件上的功能元件,以实现所述功能元件间的电路连接,其特征在于,在所述导线上设有容许导线延展形变的镂空区,所述导线至少具有一个容许形变的延展方向,在所述延展方向上的两端带有用于连接所述功能元件的电极连接部;
沿所述导线的所述延展方向,所述镂空区至少设置为两个,且相邻两个所述镂空区之间相互半包围,相互半包围的两个所述镂空区沿任一方向上的投影均具有重叠区域。
2.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述导线在可延展电子器件形变前具有平面结构。
3.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述镂空区为相互隔离的至少两个镂空结构,且至少一个镂空区的内缘为封闭结构。
4.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述镂空区具有光滑的内缘。
5.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述导线包括导电层以及包裹在导电层外周的绝缘层。
6.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述镂空区为条状。
7.如权利要求6所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述镂空区的宽度为0.1μm~10μm。
8.如权利要求6所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述镂空区沿直线或曲线延伸。
9.如权利要求6所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,不同所述镂空区之间的延伸方式相同或不同。
10.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,至少一个所述镂空区延伸至所述导线的边缘,且所述镂空区在该边缘处开放。
11.如权利要求5所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述导线的所述电极连接部暴露于所述绝缘层外部。
12.如权利要求11所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述导线与所述电极连接部为一体结构。
13.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,沿延展方向,排布有多组所述镂空区,将所述导线分隔为依次排布的多个环形结构,且相邻所述环形结构之间经由过渡部连接。
14.如权利要求13所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述镂空区为条状且沿延展方向的垂直或斜交方向延伸,相邻所述环形结构之间的镂空区延伸并开放于相应侧的所述导线边缘。
15.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,沿延展方向,排布有一组或多组所述镂空区,同组所述镂空区中在所述延展方向上包括两个单元,同一单元中沿所述延展方向的垂直或斜交方向排布一个或多个所述镂空区,同组所述镂空区中,不同单元且相互邻近的两所述镂空区相互半包围,且相互半包围的两个所述镂空区沿任一方向上的投影均具有重叠区域。
16.如权利要求1所述的应用于可延展电子器件中的导线,其特征在于,所述镂空区采用镀膜、刻蚀或切割形成。
17.一种用于制备权利要求1-16中任意一项所述应用于可延展电子器件中的导线的制备方法,其特征在于,包括制备导电层,对导电层的相应区域进行处理获得至少两个镂空区,所述镂空区设置为使得所述导线具有一个容许形变的延展方向,相邻两个所述镂空区之间相互半包围,且相互半包围的两个所述镂空区沿任一方向上的投影均具有重叠区域。
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