[发明专利]一种在线涂布超低剥离力离型聚酯薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种在线涂布超低剥离力离型聚酯薄膜，包括有硅酮涂层、上聚酯亚光层、芯层及下聚酯亚光层，其特征在于：所述上聚酯亚光层设置在硅酮涂层的下方，所述芯层设置在上聚酯亚光层的下方；所述下聚酯亚光层设置在芯层的下方，所述上聚酯亚光层、芯层及下聚酯亚光层采用ABA三层共挤方式生产出基膜，该薄膜总厚度为36-40μm。

2.根据权利要求1所述的在线涂布超低剥离力离型聚酯薄膜，其特征在于：所述上聚酯亚光层、芯层及下聚酯亚光层比例为1.5：6.5：1.5；硅酮涂层厚度比例为0.5。

3.一种由权利要求1-2任意一项所述的在线涂布超低剥离力离型聚酯薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）、硅酮涂的制备：采用涂硅液主剂与辅剂比例为8:2，总浓度10%-30%；其中涂硅液主剂为水性硅酮，辅剂为消泡剂、流平剂、分散剂、稳定剂等助剂，总浓度为10%-30%，即主剂+辅剂占10%-30%，去离子水占90%-70%；

（2）、将步骤1制备的涂液采用在线涂布的方法均匀涂设在上聚酯亚光层、芯层及下聚酯亚光层采用ABA三层共挤的上聚酯亚光层上，湿涂量10-20g/平方米；

（3）、采用D-bar涂布辊，狭缝喷头进行喷涂；

（4）、在纵拉之后、横拉之前进行在线涂布；

（5）、涂布后在横拉烘箱中烘干，烘干温度110摄氏度，烘干时间30秒左右；

（6）、采用ABA三层共挤，上聚酯亚光层采用添加二氧化硅摩擦剂的聚酯切片母料，二氧化硅浓度10%以下；芯层采用不添加二氧化硅摩擦剂的聚酯切片中性料；下聚酯亚光层采用添加二氧化硅摩擦剂的聚酯切片母料，二氧化硅浓度10%以下，上聚酯亚光层、芯层及下聚酯亚光层厚度比例为1.5：6.5：1.5；硅酮涂层厚度比例为0.5。

4.根据权利要求1所述的在线涂布超低剥离力离型聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：步骤1中，所述消泡剂为改性硅酮水性消泡剂，约占总浓度0.5%-1%；流平剂为TEGO水性流平剂，约占总浓度0.5%-2%；分散剂为含锚固基团的水性分散剂，约占总浓度0.5%；稳定剂为硬脂酸镁类水性稳定剂，约占总浓度0.5%。