[发明专利]透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法在审
申请号: | 201810857146.6 | 申请日: | 2018-07-31 |
公开(公告)号: | CN109052990A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 梁干;唐晶;武瑞军;宋保柱 | 申请(专利权)人: | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;都春燕 |
地址: | 215222 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低辐射 功能层 玻璃基体 复合膜层 介质层 低辐射镀膜玻璃 耐高温阻燃层 镀膜玻璃 保护层 色中性 钢化 双银 制备 低辐射功能膜层 第二保护层 第一保护层 耐高温能力 玻璃产品 厚度参数 膜层结构 辐射率 通透性 朝外 沉积 镀设 膜层 优化 | ||
1.一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层,其特征在于:所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的第一介质层、第一保护层、第一低辐射功能层、第二保护层、第一耐高温阻燃层、第二介质层、第三保护层、第二低辐射功能层、第四保护层、第二耐高温阻燃层、第三介质层,所述第一低辐射功能层和所述第二低辐射功能层均为Ag-Cu合金层,所述第一低辐射功能层的厚度为5-15nm,所述第二低辐射功能层的厚度为8-20nm。
2.根据权利要求1所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一介质层和所述第二介质层为ZnOx层、ZnSnOx层以及SiNx层中的任意一层或任意多层的复合层。
3.根据权利要求2所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一介质层的厚度为13-60nm;所述第二介质层的厚度为45-75nm。
4.根据权利要求1所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第三介质层为SiNx层、SiOx层、SiNxOy层以及TiOx层中的任意一层或任意多层的复合层。
5.根据权利要求4所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第三介质层的厚度为25-70nm。
6.根据权利要求1所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一保护层、所述第二保护层、所述第三保护层以及所述第四保护层为NiCrOx层。
7.根据权利要求6所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一保护层、所述第二保护层、所述第三保护层以及所述第四保护层的厚度为0.4-6nm。
8.根据权利要求1所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一耐高温阻燃层和所述第二耐高温阻燃层为SbOx层。
9.根据权利要求8所述的一种透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一耐高温阻燃层的厚度为20-60nm;所述第二耐高温阻燃层的厚度为30-60nm。
10.一种权利要求1至9任一项所述的透过色中性的可钢化双银低辐射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)采用磁控溅射镀膜方式,在所述玻璃集体的一侧表面镀设所述第一介质层;
(2)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第一介质层的外侧表面镀设所述第一保护层;
(3)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第一保护层的外侧表面镀设所述第一低辐射功能层;
(4)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第一低辐射功能层的外侧表面镀设所述第二保护层;
(5)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第二保护层的外侧表面镀设所述第一耐高温阻燃层;
(6)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第一耐高温阻燃层的外侧表面镀设所述第二介质层;
(7)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第二介质层的外侧表面镀设所述第三保护层;
(8)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第三保护层的外侧表面镀设所述第二低辐射功能层;
(9)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第二低辐射功能层的外侧表面镀设所述第四保护层;
(10)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第四保护层的外侧表面镀设所述第二耐高温阻燃层;
(11)采用磁控溅射镀膜方式,在所述第二耐高温阻燃层的外侧表面镀设所述第三介质层。
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