[发明专利]一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物及其制备方法与应用

权利要求书

1.一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物，其特征在于，具有如下化学结构式：

其中n为L基团上连接的含硼杂环并吡啶并二唑衍生物基团的数量，n＝1～6；

X为二唑单元中的杂原子，每次出现时相同或者不同地选自O,S,Se,Te原子或NR¹基团；

R¹每次出现时相同或者不同地选自H、D、F、Cl、CN、NO₂、C(＝O)R²,Si(R²)₃,N(R²)₂,P(＝O)(R²)₂,P(＝S)(R²)₂,OR²,SR²,S(＝O)R²,S(＝O)₂R²、具有1～20个碳原子的直链的烷基、具有3～20个碳原子的支链或环状的烷基、具有2-20个碳原子的烯基或炔基基团、碳原子数为6～60芳族有机基团或碳原子数为3～60的杂芳族有机基团，其中在前述提到的任一基团中的一个或多个-CH₂-基团能被-R³C＝CR³-,-C≡C-,Si(R³)₂,C＝O,C＝NR³,-C(＝O)O-,-C(＝O)NR³-,NR³,P(＝O)(R³),P(＝S)(R³),O,S,S(＝O)或SO₂代替；两个或更多个基团R¹之间能彼此链接且可形成环；

R²、R³每次出现时相同或者不同地选自具有1～60个碳原子的直链烷基、具有3～60个碳原子的支链或环状的烷基、具有2-20个碳原子的烯基或炔基基团、碳原子数为6～60芳族有机基团或碳原子数为3～60的杂芳族有机基团；两个或更多个基团R²、R³可彼此链接且可形成环；

Ar每次出现时相同或者不同地选自可被一个或多个基团R^1～3取代的具有6～80个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R^1～3取代的具有3～80个芳族环原子的杂芳族环系的基团；或Ar＝R¹；R^1～3指R¹、R²或R³；

L每次出现时相同或者不同地选自可被一个或多个基团R^1～3取代的具有6～80个芳族环原子的芳族环系或可被一个或多个基团R^1～3取代的具有3～80个芳族环原子的杂芳族环系的基团。

2.根据权利要求1所述的一类含硼氮基团的吡啶并二唑衍生物，其特征在于，所述的L单元每次出现时为以下结构或一个或多个基团R^1～3取代的以下结构的衍生物或它们的组合：

其中，Y每次出现时相同或者不同地选自C(R¹)₂,NR¹,BR¹,C(R¹)₂O,Si(R¹)₂,Ge(R¹)₂,R¹C＝CR¹,C(R¹)₂C(R¹)₂,C＝O,C＝NR¹,C(＝O)O,C(＝O)NR¹,P(＝O)(R¹),P(＝S)(R¹),O,S,Se,Te,S(＝O),SO₂；Z每次出现时相同或者不同地选自CR¹或N。