[发明专利]一种基于温针疗法的艾柱打孔装置

权利要求书

1.一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：包括底座、连接件、压板和打孔组件，所述底座连接所述连接件，并通过所述连接件与所述压板连接，所述压板位于所述底座上方并与所述底座上表面平行，所述压板与所述连接件滑动连接，其滑动方向垂直于所述底座上表面；

所述底座上表面设有用于支撑艾柱的若干个所述打孔组件，若干个所述打孔组件及其支撑的艾柱均位于所述压板下方，且在所述压板上的投影均落在所述压板上，所述打孔组件包括穿刺杆、艾柱放置槽和第一弹簧，所述穿刺杆的一端与所述底座上表面可拆卸垂直连接，另一端与所述艾柱放置槽滑动连接，所述艾柱放置槽槽口朝向所述压板所在侧；所述艾柱放置槽的外侧面连接所述第一弹簧的一端，所述第一弹簧的另一端指向所述底座所在侧并连接所述穿刺杆，所述第一弹簧的弹力方向平行于所述穿刺杆，当所述第一弹簧无压板作用，且受力平衡静止时，所述艾柱放置槽内艾柱的一端与所述穿刺杆正对但不抵接。

2.根据权利要求1所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述底面上表面开设有若干个固定槽，若干个所述固定槽内设有内螺纹，所述穿刺杆的一端设有外螺纹，其与所述固定槽螺纹连接固定在所述底座上。

3.根据权利要求1所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述第一弹簧环绕在所述穿刺杆的外表面上。

4.根据权利要求1所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述第一弹簧无压板作用，且受力平衡静止时，所述艾柱放置槽底部脱离所述穿刺杆，所述艾柱放置槽的直径大小等于放置在其内艾柱的直径大小，所述艾柱放置槽的长度不小于放置在其内艾柱总长度的1/3；所述第一弹簧的压缩量不小于所述穿刺杆背离底座的端部至所述艾柱放置槽槽口的距离。

5.根据权利要求1所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：若干个所述打孔组件上艾柱放置槽的直径规格包括1cm、1.5cm、2cm和2.5cm，长度规格包括0.5cm、1cm、1.5cm、2cm、2.5cm、3cm、3.5cm和4cm。

6.根据权利要求1所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述压板上表面设有罩体，所述罩体与所述压板形成酒精容置腔，所述压板上开设有若干个使所述酒精容置腔内部外连通的通口，若干个所述通口分别与若干个所述艾柱放置槽内的艾柱正对，其尺寸大小小于所述艾柱放置槽内艾柱的直径大小；若干个所述通口处均滑动安装有塞体，所述塞体的一端为堵塞部，所述堵塞部堵塞在所述通口处，所述堵塞部连接有第二弹簧，所述第二弹簧位于所述酒精容置腔内，其一端与所述堵塞部连接，另一端与所述罩体连接，所述第二弹簧呈非伸长状态，其弹力方向垂直于所述压板；所述塞体另一端的尺寸大小小于所述通口的尺寸大小，其位于所述酒精容置腔外，且凸出于所述压板下方，所述塞体凸出于压板下方的长度大小大于所述堵塞部位于所述通口处的长度大小，以在所述压板将所述艾柱放置槽和艾柱放置槽内的艾柱向下压，且所述艾柱抵接所述塞体时，所述塞体该端朝所述酒精容置腔内滑动至所述塞体的堵塞部远离所述通口，使所述艾柱最终抵接与其正对的通口，且使所述酒精容置腔内的酒精通过所述通口流出沾附在所述艾柱上。

7.根据权利要求6所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述罩体上开设有使酒精容置腔内腔外连通的进口，所述进口处安装有进口盖。

8.根据权利要求6所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述通口的尺寸大小为0.5-0.9cm。

9.根据权利要求6所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述塞体为圆台结构，其尺寸较小的一端位于酒精容置腔外。

10.根据权利要求6所述的一种基于温针疗法的艾柱打孔装置，其特征在于：所述第二弹簧外设有沿其弹力方向进行伸缩的伸缩杆，所述伸缩杆呈中空结构，其两端分别连接所述罩体和塞体的堵塞部。