[发明专利]一种碳化硅纳米线宏观有序体及其制备方法

权利要求书

1.一种碳化硅纳米线宏观有序体的制备方法，其特征在于，包括：

将碳化硅纳米线分散于溶剂中，再加入分散剂、粘结剂和增塑剂混合，得到碳化硅纳米线浆料；

采用流延法将碳化硅纳米线浆料制成无序碳化硅纳米线薄膜；

采取机械拉伸法处理无序碳化硅纳米线薄膜，得到所述碳化硅纳米线宏观有序体。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述碳化硅纳米线的直径为0.1～0.6μm，长径比大于100；优选地，所述碳化硅纳米线的直径为0.1～0.6μm，长度为100μm。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂为无水乙醇、去离子水、丙酮、甲醛中的至少一种。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述分散剂包含十二烷基磺酸钠、富马酸二甲酯、异丙醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯亚胺中的至少一种，所述分散剂与碳化硅纳米线的质量比为1:0.1～1:10。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述粘结剂为低密度聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚氯乙烯、聚苯乙烯的至少一种，所述粘结剂与碳化硅纳米线的质量比为1:0.1～1:5。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述增塑剂为邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸酣中的至少一种，所述增塑剂与碳化硅纳米线的质量比为1:0.1～1:5。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述无序碳化硅纳米线薄膜的厚度至少为0.01mm，优选为0.10～1.00mm。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的制备方法，其特征在于，采取机械拉伸法控制无序碳化硅纳米线薄膜的拉伸长度为原长度的10%～200%，优选为80%～150%。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述机械拉伸法的拉伸速度为0.1～50mm/分钟。

10.一种根据权利要求1-9中任一项所述的制备方法制备的碳化硅纳米线宏观有序体。