[发明专利]一种自发光-反光路沿石及其制备方法在审
| 申请号： | 201810867424.6 | 申请日： | 2018-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN108914800A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 韩玉平;韩欣洁 | 申请（专利权）人： | 四川杰邦科技有限公司 |
| 主分类号： | E01F9/541 | 分类号： | E01F9/541;E01F9/547;C09D5/22;C09D1/00;C09D7/63;C09D7/61 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 621000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 自发光 凹凸纹理 路沿石 反光 反光材料 自发光材料 上端面 凹陷 立面 斜肩 附着 混合材料 自然光 横端面 可吸收 基台 增亮 制备 城市道路 反射 光源 发光 光照 掩埋 通行 交通 安全 | ||
1.一种自发光-反光路沿石，包括上端面、斜肩、立面、基础掩埋部分和基台横端面，其特征在于，所述路沿石的上端面、斜肩和立面具有凹凸纹理结构；
所述凹凸纹理结构的凹陷部分表面附着有自发光材料和/或反光材料。
2.根据权利要求1所述的自发光-反光路沿石，其特征在于，所述反光材料由包括以下质量百分比的原料制备得到：
余量的有机溶剂。
3.根据权利要求1所述的自发光-反光路沿石，其特征在于，所述自发光材料为夜光粉。
4.根据权利要求1所述的自发光-反光路沿石，其特征在于，所述凹凸纹理结构的凹陷部分附着有自发光材料和反光材料时，所述自发光材料和反光材料的质量比为1:0.5～5。
5.根据权利要求1所述的自发光-反光路沿石，其特征在于，所述凹陷部分附着的自发光材料和/或反光材料的厚度独立地为20～50μm。
6.根据权利要求1或5所述的自发光-反光路沿石，其特征在于，所述凹凸纹理结构的凸起高度为1～3mm；凹陷深度为1～3mm。
7.权利要求1～6任意一项所述自发光-反光路沿石的制备方法，包括以下步骤：
(1)将路沿石基材原料混合后在模具中浇筑，得到路沿石基础坯；所述模具结构中对应上端面、斜肩和立面的位置设置有凹凸纹理结构；
(2)将所述路沿石基础坯进行干燥，得到路沿石基材；
(3)将自发光材料和/或反光材料的原料混合后植入所述路沿石基材凹凸纹理结构的凹陷部分，固化后得到自发光-反光路沿石。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述干燥包括自然干燥或加热干燥；所述加热干燥的温度为80～200℃；所述自然干燥的时间≥72h。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述固化的温度为80～200℃，所述固化的时间为10～20min。
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述固化后还包括对附着有自发光和/或反光材料的路沿石基材进行表面砂光处理。
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