[发明专利]涂布口金组件及涂布口金系统在审
申请号: | 201810875732.3 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN108983561A | 公开(公告)日: | 2018-12-11 |
发明(设计)人: | 高攀 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 口金 导轨 擦除机构 擦除组件 滑动连接 喷液嘴 侧面 鼓风 支架 长度方向延伸 倾斜连接 滑动 贴覆 | ||
本发明提供一种涂布口金组件,包括:涂布口金,其具有条形的支架以及设置于该支架上的涂布口金本体,该涂布口金本体的两个相互倾斜连接的侧面上分别设置有导轨,该导轨沿着该涂布口金本体的长度方向延伸;两个擦除组件,该两个擦除组件分别设置于该两个侧面上的导轨上并可沿着对应的导轨滑动;所述擦除组件包括擦除机构、鼓风头以及喷液嘴,所述擦除机构贴覆在一所述侧面上并与所述导轨滑动连接,所述鼓风头以及所述喷液嘴分别位于所述擦除机构两侧且均与所述导轨滑动连接。
技术领域
本发明涉及光阻清洗领域,具体涉及一种涂布口金组件及涂布口金系统。
背景技术
TFT-LCD、OLED等半导体显示领域的诸多制程中,光阻通过涂布机均匀涂布在基板表面,然后经过曝光形成各种面内图案,涂布时光阻的膜质厚度及成膜均一性会极大地影响各层像素图案质量。涂布机在进行光阻涂布后,往往会有多余光阻残留在Gantry口金外侧,如果未完全清理干净,下次作业时可能会导致光阻涂布异常,如出现mura,更严重时甚至会发生破膜现象,影响涂布制程的顺利进行和产能提升。
目前,主要通过人员手动擦拭及擦除件自动刮拭以进行Gantry口外侧光阻残清除,但是上述应对方式有时也存在以下的问题:
手动清理效率低下且清除效果因人而已,整体稳定性差。此外,频繁进入涂布机内部进行清理作业,人员不可避免地吸入部分光阻及溶剂挥发成分,这会对作业人员身体造成一定的伤害;
自动Rubber清理虽然作业效率相对较高,但由于Rubber是独立于Gantry之外的活动机构部件(如图1所示),其与Gantry的贴合程度(关乎刮拭干净程度)容易受到机况的影响,如果发生相对位置偏离,则有可能使Rubber出现单侧磨损,导致Gantry刮拭不干净,从而造成光阻涂布异常和产品不良。
因此,现有技术存在缺陷,急需改进。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种涂布口金组件及涂布口金系统,具有自动清洗去除光阻残留的效果。
本发明提供了一种涂布口金组件,包括:
涂布口金,其具有条形的支架以及设置于该支架上的涂布口金本体,该涂布口金本体的两个相互倾斜连接的侧面上分别设置有导轨,该导轨沿着该涂布口金本体的长度方向延伸;
两个擦除组件,该两个擦除组件分别设置于该两个侧面上的导轨上并可沿着对应的导轨滑动;
所述擦除组件包括擦除机构、鼓风头以及喷液嘴,所述擦除机构贴覆在一所述侧面上并与所述导轨滑动连接,所述鼓风头以及所述喷液嘴分别位于所述擦除机构两侧且均与所述导轨滑动连接。
在本发明所述的涂布口金组件中,所述擦除机构包括可沿着所述侧面的长度方向滑动的滑块以及设置于所述滑块上且可沿着所述侧面的宽度方向滑动的擦除片,所述擦除片与所述侧面的局部贴合。
在本发明所述的涂布口金组件中,所述导轨为开设于所述侧面上的凹槽,所述滑块可滑动地插设于所述凹槽内。
在本发明所述的涂布口金组件中,所述擦除片的宽度大于所述侧面宽度的一半。
在本发明所述的涂布口金组件中,所述鼓风头以及喷液嘴均设置于所述滑块上。
在本发明所述的涂布口金组件中,还包括用于驱动所述滑块沿着所述长度方向移动的驱动组件,所述驱动组件设置于所述凹槽内。
在本发明所述的涂布口金组件中,所述擦除片呈矩形片状。
在本发明所述的涂布口金组件中,所述擦除片的与所述侧面接触的一面设置有弹性层。
在本发明所述的涂布口金组件中,所述侧面上开设有多个沿着宽度方向延伸的用于导引清洗液的导流槽。
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