[发明专利]用于X光装置的设备

权利要求书

1.一种具有用于均匀化由X光源（RQ）发出的X光射束（RS）的过滤器单元（Fn）的设备，

其特征在于，

设有可定向的遮光板-过滤器-镜-单元（BFSE），其中，所述遮光板-过滤器-镜-单元为了限界X光窗（RF）而具有拥有至少一个留空（Al, ..., An）的基板（G）并且留空（Al, ...,An）具有至少一个过滤器单元（Fn），其中，具有光反射层和/或光反射表面（S）的过滤器层设置在所述遮光板-过滤器-镜-单元（BFSE）的过滤器单元（Fn）上并且构成所述过滤器单元（Fn），其中，所述光反射层和/或所述光反射表面（S）在所述过滤器单元（Fn）上构造在所述基板（G）的面向光源（LQ）的一侧上。

2. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述过滤器单元（Fl, Fn）以薄膜或板的形式构造。

3. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述过滤器单元（Fl,...,Fn）布置在所述基板（G）的至少一个留空（Al, ..., An）中和/或所述基板（G）的至少一个留空（Al, ...,An）上和/或所述基板（G）的至少一个留空（Al, ..., An）下。

4.根据以上权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述遮光板-过滤器-镜-单元（BFSE）以层结构形式构建。

5.根据以上权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，光源（LQ）的光束能够根据所述X光源（RQ）的X光射束的传播由所述可定向的遮光板-过滤器-镜-单元（BFSE）的至少一个光反射层和/或光反射表面（S）转向。

6.根据以上权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述遮光板-过滤器-镜-单元（BFSE）在准直器（K）中可定位和可定向成，使得对准所述遮光板-过滤器-镜-单元（BFSE）的光反射层和/或光反射表面（S）的光源（LQ）使从所述光源出发的光束在所述光反射层和/或光反射表面（S）上朝对象（P）方向转向并且在放置在所述对象台（OT）上的对象（P）上成像在所述对象（P）上的相应于所述X光窗（RF）的光窗（LF）。

7.根据以上权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述光源（LQ）是可定位的和可定向的。

8. 根据以上权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，布置在所述准直器（K）中的至少一个薄片（L1,...,L4）可定向和/或可控制成，使得在所述病人或对象（P）上的通过所述基板（G）中的留空（Al, ..., An）形成的X光窗（RF）部分地可缩小或可淡出。