[发明专利]具有优异稳定性的研磨机

说明书

本发明公开了一种具有优异稳定性的研磨机，该研磨机的转轴上安装有研磨片，所述研磨片通过以下方法制备而得：1）将紫胶树脂、异氰酸酯、脂肪酸进行初步熔融，接着加入酚醛树脂进行二次熔融以得到熔融物；2）将金刚石、氧化硅、棕刚玉、氧化铈、滑石粉加入所述熔融物混合以制得混合物，接着将所述混合物敷设于所述PET聚酯膜的表面，然后冷却、裁剪以制得所述具有优异稳定性的研磨机；所述金刚石的平均粒径为0.2‑0.3μm，所述氧化硅的平均粒径为10‑15nm，所述棕刚玉的平均粒径为0.02‑0.05μm，所述氧化铈的平均粒径为8‑12nm。该研磨机具有优异的稳定性。

技术领域

本发明涉及研磨片，具体地，涉及一种具有优异稳定性的研磨机。

背景技术

研磨片是指利用超精密涂布技术，将精选的微米或纳米级研磨微粉与高性能粘合剂均匀分散后，涂覆于高强度PET聚酯薄膜（PET为聚对苯二甲酸乙二醇酯）表面，然后经过高精度裁剪工艺加工而成。研磨片运用领域非常广泛，如光通信领域、微型电机领域、硬盘领域等。下面就具体产品应用详细说明：金刚石研磨片应用于光纤连接器、硬盘磁头、盘面、光学玻璃、光学晶体、LED、LCD、半导体材料的研磨抛光；碳化硅研磨片应用于陶瓷插芯的去胶粗磨、塑料插芯的研磨抛光、磁头的精磨抛光；氧化铝研磨片应用于光纤连接器的研磨、太阳能电池硅片的研磨、硬盘碳层凸起的去除、ITO凸起的去除、光学材料的研磨抛光；氧化铈研磨片应用于光纤连接器的研磨、太阳能电池硅片的研磨、硬盘碳层凸起的去除、ITO凸起的去除、光学材料的研磨抛光；氧化硅研磨片应用于光纤连接器的最终超精密抛光。

虽然现有的研磨片能够满足于大部分的生产需求，但是研磨片在研磨、抛光过程中则出现过高温度（甚至会1400℃），但是现有的研磨片往往散热情况不理想，不能及时散失进而导致研磨片的硬度和力学强度降低。

发明内容

本发明的目的是提供一种具有优异稳定性的研磨机，该研磨机具有优异的稳定性。

为了实现上述目的，本发明提供了一种具有优异稳定性的研磨机，该研磨机的转轴上安装有研磨片，所述研磨片通过以下方法制备而得：

1）将紫胶树脂、异氰酸酯、脂肪酸进行初步熔融，接着加入酚醛树脂进行二次熔融以得到熔融物；

2）将金刚石、氧化硅、棕刚玉、氧化铈、滑石粉加入熔融物混合以制得混合物，接着将混合物敷设于PET聚酯膜的表面，然后冷却、裁剪以制得具有优异稳定性的研磨机；

其中，金刚石的平均粒径为0.2-0.3μm，氧化硅的平均粒径为10-15nm，棕刚玉的平均粒径为0.02-0.05μm，氧化铈的平均粒径为8-12nm。

在上述技术方案中，本发明首选通过异氰酸酯、脂肪酸对紫胶树脂进行改性进而阻止紫胶树脂在受热过程中的醚化聚合从而提高其受热性能，同时加入酚醛树脂进行复配进而提高粘结剂的耐热性能；另外，通过对金刚石、氧化硅、棕刚玉、氧化铈的粒径进行优化筛选，从而提高制成的研磨片的热传导效率以提高其稳定性，因此安装有该研磨片的研磨片具有优异的稳定性。

本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

具体实施方式

以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

本发明提供了一种具有优异稳定性的研磨机，研磨机的转轴上安装有研磨片，所述研磨片通过以下方法制备而得：

1）将紫胶树脂、异氰酸酯、脂肪酸进行初步熔融，接着加入酚醛树脂进行二次熔融以得到熔融物；

2）将金刚石、氧化硅、棕刚玉、氧化铈、滑石粉加入熔融物混合以制得混合物，接着将混合物敷设于PET聚酯膜的表面，然后冷却、裁剪以制得具有优异稳定性的研磨机；