[发明专利]一种新型多肽荧光纳米结构材料及其制备方法

权利要求书

1.一种新型多肽荧光纳米结构材料，其特征在于，由含有酪氨酸和赖氨酸的多肽通过氧化和氨基加成的方式交联形成。

2.根据权利要求1所述的一种新型多肽荧光纳米结构材料，其特征在于，所述多肽为包含酪氨酸、赖氨酸、甘氨酸的多肽。

3.根据权利要求2所述的一种新型多肽荧光纳米结构材料，其特征在于，所述多肽包括三肽，所述三肽的组合形式包括（GYK、GKY、YGK、YKG、KGY或KYG）。

4.根据权利要求3所述的一种新型多肽荧光纳米结构材料，其特征在于，所述多肽包括三肽作为一个单元组成的重复序列，包括GYK、GYKGYK、GYKGYKGYK、……（GYK）n，其中n为大于零的整数，即多肽为含GYK序列的多肽。

5.如权利要求1所述的一种新型多肽荧光纳米结构材料，其特征在于，所述多肽C端可通过对其进行序列设计和功能修饰，选用识别序列RGD肽但不限于RGD肽。

6.如权利要求1所述的一种新型多肽荧光纳米结构材料，其特征在于，所述多肽荧光纳米材料表面携带正电荷且易于连接和修饰识别序列而进行共组装。

7.一种新型多肽荧光纳米结构材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）将适量含GYK序列的多肽溶于pH 为8的碱性溶液中，使其溶液浓度大于1 mg/mL；（2）加入0.05 %～0.1%体积的氧化剂，25～80℃水浴加热2～10h，冷却至室温，超滤除去未反应的多肽单体，即得。

8.如权利要求7所述的一种新型多肽荧光纳米结构材料的制备方法，其特征在于，（1）中所述碱性溶液可选用但不仅限于磷酸缓冲液（PBS）、硼砂（四硼酸钠）缓冲液、Tris缓冲液、MES缓冲液或HEPES缓冲液。

9.如权利要求7所述的一种新型多肽荧光纳米结构材料的制备方法，其特征在于，（2）中所述氧化剂为过氧化氢溶液。