[发明专利]离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜及制备方法在审
申请号: | 201810882642.7 | 申请日: | 2018-08-06 |
公开(公告)号: | CN109037742A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 陈芳;蔡蓉;林锋;陈闯;马晓燕 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学;西北工业大学深圳研究院 |
主分类号: | H01M8/1039 | 分类号: | H01M8/1039;H01M8/1044;H01M8/1069 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 嵌段共聚物 离子型 制备 复合质子交换膜 质子交换膜 共混 商用 浸渍 尺寸不稳定性 聚合物基体 质子传导率 功能涂层 结构调控 微观结构 普适性 相分离 低湿 多层 刮涂 溶融 溶胀 组份 复合 | ||
1.一种离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜,其特征在于组份为70-99wt%聚合物基体和1-30wt%离子型含POSS嵌段共聚物;所述聚合物基体为磺化聚砜、全氟磺酸树脂或磺化聚醚醚酮;所述离子型含POSS嵌段共聚物为不同拓扑结构的含POSS嵌段共聚物中的一种,化学结构分别为POSS-PMMA-PS、POSS-PMMA-SPS、POSS-(PMMA-SPS)8或POSS-(PMMA-PS)8。
2.根据权利要求1所述离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜,其特征在于:所述POSS-PMMA-PS、POSS-PMMA-SPS、POSS-(PMMA-SPS)8嵌段比为:PMMA:SPS=1:2。
3.根据权利要求1所述离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜,其特征在于:所述POSS-(PMMA-PS)8嵌段比分别为:PMMA:PS=1:1、1:2、1:4、1:7。
4.一种采用非溶剂致相分离法制孔—浸渍法制备权利要求1~3所述任一项离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜的方法,其特征在于步骤如下:
步骤1:将聚合物基体溶于有机溶剂得到浓度为0.2-0.4g/mL的溶液,再将溶液平整的刮涂在玻璃板上后放入甲苯溶液中静置20-40min,得到多孔基体膜;所述聚合物基体为磺化聚砜、全氟磺酸树脂或磺化聚醚醚酮;所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺或者其与甲苯的混合溶剂;
步骤2:将多孔基体膜浸入POSS嵌段共聚物溶液中,静置10-15min得到复合膜;所述POSS嵌段共聚物溶液是:嵌段比分别为:PMMA:PS=1:1、1:2、1:4、1:7的POSS-PMMA-PS或POSS-(PMMA-PS)8与甲苯或其与N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂;所述POSS嵌段共聚物溶液的浓度为0.05-0.15g/mL;
步骤3:将复合膜放入烘箱中,在70-80℃中放置10-12h烘干后,再揭下基底上的膜为离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜。
5.一种采用多层刮涂法制备复合膜制备权利要求1~3所述任一项离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜的方法,其特征在于步骤如下:
步骤1):将聚合物基体溶于N,N-二甲基甲酰胺溶剂,得到浓度为0.15-0.5g/mL的溶液,再将溶液平整的刮涂在玻璃板上,将其做成多孔基体膜或平滑膜;所述聚合物基体为磺化聚砜、全氟磺酸树脂或磺化聚醚醚酮;
步骤2):将POSS嵌段共聚物溶液刮涂在玻璃板上的多孔基体膜或平滑膜上,然后放入80℃烘箱中放置10h后烘干,得到离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜;
所述POSS嵌段共聚物溶液是:将嵌段比为:PMMA:SPS=1:2的POSS-PMMA-SPS或POSS-(PMMA-SPS)8与N,N-二甲基甲酰胺溶剂混合,POSS嵌段共聚物溶液的浓度为0.25-0.40g/mL。
6.一种采用溶融共混法制备复合膜制备权利要求1~3所述任一项离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜的方法,其特征在于步骤如下:
步骤(1):将一定质量比例的聚合物基体与POSS嵌段共聚物溶于有机溶剂中得到浓度为0.10-0.20g/mL的铸膜液;
所述聚合物基体为磺化聚砜、全氟磺酸树脂或磺化聚醚醚酮;
所述聚合物基体与POSS嵌段共聚物的质量比分别为:95/5、90/10、80/20、70/30;
所述POSS嵌段共聚物为嵌段比为:PMMA:SPS=1:2的POSS-PMMA-SPS或POSS-(PMMA-SPS)8;
步骤(2):将铸膜液倒入表面皿中,放在烘箱中,在温度为40-60℃,放置时间为10-18h,烘干得到离子型含POSS嵌段共聚物复合质子交换膜。
7.根据权利要求6所述方法,其特征在于:所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺或N,N-二甲基乙酰胺。
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