[发明专利]光刻机微反射镜阵列角位置监测装置及使用方法

权利要求书

1.一种光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：包括光源单元(1)、供微反射镜阵列(6)放置的固定单元(2)、角位置转换单元(3)、位置传感器单元(4)和上位机(7)，所述的光源单元(1)的出射光入射到所述的微反射镜阵列(6)上，经该微反射镜阵列(6)反射后，依次入射到所述的角位置转换单元(3)和位置传感器单元(4)，所述位置传感器单元(4)位于所述角位置转换单元(3)的后焦面或像面上。

2.如权利要求1所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：还包括反射镜单元(5)，所述的光源单元(1)的出射光经所述射镜单元(5)发射后，再入射到所述的微反射镜阵列(6)上。

3.如权利要求1所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：所述光源单元(1)包括沿光路依次放置的光源阵列组件(101)与微透镜阵列组件(102)，所述光源阵列组件(101)位于所述微透镜阵列组件(102)的前焦面上。

4.如权利要求3所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：所述光源阵列组件(101)中的子光源与所述微透镜阵列组件(102)中的微透镜排列周期相等，且中心对准。所述光源阵列组件(101)与所述微透镜阵列组件(102)的组合形式可为单个子组件、一维阵列或二维阵列。

5.如权利要求3所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：所述光源阵列组件(101)为可见光或红外光，优选器件为激光二极管或发光二极管。

6.如权利要求1所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：所述固定单元(2)为机械夹持、吸附或粘附。

7.如权利要求1所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：所述角位置转换单元(3)为傅里叶变换透镜、单成像透镜或成像透镜组。

8.如权利要求1所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：所述位置传感器单元(4)为位置敏感传感器或电荷耦合元件。

9.如权利要求2所述的光刻机微反射镜阵列监测装置，其特征在于：所述反射镜单元(5)为可转动或不可转动。

10.一种光刻机微反射镜阵列监测装置的使用方法，其特征在于，具体步骤为：

步骤1：将本发明中所述的光刻机微反射镜阵列监测装置固定于光刻机自由照明模块上。

步骤2：调整所述光源阵列组件(101)与所述微透镜阵列组件(102)的位置，使所述光源阵列组件(101)位于所述微透镜阵列组件(102)的前焦面上；调整所述角位置转换单元(3)与位置敏感传感器单元(4)的位置，使位置传感器单元(4)位于所述角位置转换单元(3)的后焦面或像面上。

步骤3：判断所述光源阵列组件中子光源的个数和尺寸、所述微透镜阵列组件中微透镜的个数和尺寸是否与所述微反射镜阵列单元中微反射镜的个数与尺寸相匹配。若匹配，则直接进入步骤4，对所述微反射镜阵列单元的角位置信息进行监测；若不匹配，则将所述微反射镜阵列单元分为若干区域后，再进行监测。

步骤4：依次点亮所述光源单元，并照亮所述微反射镜阵列单元中对应的微反射镜。光束经该微反射镜阵列反射后，依次入射到所述的角位置转换单元和位置传感器单元，所述位置传感器单元探测所述微反射镜阵列单元中的微反射镜的角位置信息，并反馈给上位机。

步骤5：在对所述微反射镜阵列分区监测的情况下，通过机械传动所述光源单元或转动所述反射镜单元实现所述微反射镜阵列单元中不同区域的监测，每个区域的监测过程同步骤4。