[发明专利]含有残留寡聚物的织物基材的染色方法在审

专利信息
申请号: 201810895868.0 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN110629570A 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 王赵增;黄馨妘;陈奕涵 申请(专利权)人: 远东新世纪股份有限公司
主分类号: D06P3/54 分类号: D06P3/54;D06P1/16;D06P1/94
代理公司: 11355 北京泰吉知识产权代理有限公司 代理人: 张雅军;史瞳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要:
搜索关键词: 织物基材 染色 微孔膜 寡聚物 超临界流体 残留 承载座 基材 染剂 孔洞 废水排放 超临界 附接 夹带 载座 穿过 覆盖
【说明书】:

一种含有残留寡聚物的织物基材的染色方法,包含以下步骤:(a)将该织物基材附接于安装载座以形成基材承载座,以在热压釜中进行超临界染色;及(b)覆盖微孔膜于该基材承载座的织物基材上,该微孔膜的孔洞尺寸可以使该织物基材在该热压釜中进行染色时,含有染剂的超临界流体被容许穿过该微孔膜以使该织物基材被染色,同时,该超临界流体夹带的残留寡聚物被该微孔膜所拦阻。该含有残留寡聚物的织物基材的染色方法可以提高染剂的染色程度且可减少废水排放问题。

技术领域

发明涉及一种织物基材的染色方法,特别是涉及一种含有残留寡聚物的织物基材的染色方法。

背景技术

在织物(例如聚酯布料)的染色过程中,使用超临界流体染色替代水染可以减少废水排放的问题。然而,在织物的工艺中,于合成及纺丝阶段会生成少量残留寡聚物(residual oligomer),而超临界流体容易加速残留寡聚物在高温染浴(dye bath)中浸出(leach)至织物表面,导致于超临界流体染色阶段往往会在织物表面形成色斑,且残留寡聚物容易与染料凝集(aggregate)并沉积附着于染槽的内壁上,造成设备污染。

现有的超临界流体染色过程,多是于染色阶段后,通过水洗清除织物表面的残留寡聚物,但也背离了减少废水排放的诉求,且通常只能去除约15%至25%的残留寡聚物。

发明内容

本发明的目的在于提供一种含有残留寡聚物的织物基材的染色方法,可以克服上述背景技术的缺点。

本发明的含有残留寡聚物的织物基材的染色方法,包含以下步骤:(a)将该织物基材附接(attaching)于安装载座(mounting carrier)以形成基材承载座(substrate-loaded carrier),以在热压釜中进行超临界染色;及(b)覆盖(overlying)微孔膜于该基材承载座的织物基材上,该微孔膜的孔洞尺寸可以使该织物基材在该热压釜中进行染色时,含有染剂的超临界流体被容许穿过该微孔膜以使该织物基材被染色,同时,该超临界流体夹带的残留寡聚物被该微孔膜所拦阻。

本发明的有益效果在于:该含有残留寡聚物的织物基材的染色方法可以提高染剂的染色程度且不产生任何废水。

以下将就本发明内容进行详细说明:

本发明含有残留寡聚物的织物基材的染色方法,包含以下步骤:(a)将该织物基材附接于安装载座以形成基材承载座,以在热压釜中进行超临界染色;及(b)覆盖微孔膜于该基材承载座的织物基材上,该微孔膜的孔洞尺寸可以使该织物基材在该热压釜中进行染色时,含有染剂的超临界流体被容许穿过该微孔膜以使该织物基材被染色,同时,该超临界流体夹带的残留寡聚物被该微孔膜所捕捉并且拦阻。

优选地,该微孔膜的孔径小于该残留寡聚物的大小。更优选地,该微孔膜的孔径范围为0.1至1.0μm。最优选地,该微孔膜的孔径范围为0.2至0.8μm。

优选地,该微孔膜的厚度范围为10至90mm。

优选地,该微孔膜是由聚合物材料所制成。在本发明的部分具体实施例中,该微孔膜是由聚四氟乙烯所制成。在本发明的部分具体实施例中,该微孔膜是由聚氨酯所制成。在本发明的部分具体实施例中,该微孔膜是由聚丙烯所制成。

优选地,该织物基材是由聚酯材料所制成。

优选地,该染剂是分散性染料(disperse dye)。在本发明的具体实施例中,该染剂是分散红92或分散蓝60。

优选地,该安装载座是呈杆状,且在该步骤(a)中,该织物基材是卷绕于该安装载座。

优选地,该超临界流体是超临界二氧化碳。

附图说明

本发明的其他的特征及功效,将于参照附图的实施方式中清楚地呈现,其中:

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