[发明专利]靶材清洁组件及靶材清洁方法、成膜设备

权利要求书

1.一种靶材清洁组件，其特征在于，所述靶材清洁组件包括气体导向机构，所述气体导向机构用于提供朝向靶材的气流，所述气流的流通方向指向所述靶材的缝隙且所述气流的吹扫区域覆盖所述靶材，并通过所述气流的流通将落于所述靶材缝隙中的颗粒去除；

所述气流的流通方向与所述靶材所处平面相垂直；

所述气体导向机构包括内部中空的管道，所述管道和所述缝隙的延伸方向一致，所述管道朝向所述缝隙的一侧设置有气流出口；

所述管道设置于所述靶材背离待成膜基板的一侧，所述管道朝向所述缝隙的一侧设置有分支管，所述分支管与所述管道导通并与所述靶材所述处平面相垂直，所述分支管部分从所述靶材背离所述待成膜基板的一侧伸入所述缝隙中，所述气流出口设置于所述分支管的自由端，用于形成流经所述气流出口和所述缝隙并从所述靶材相对所述待成膜基板的一侧流出的气流，以将所述缝隙中的颗粒去除。

2.根据权利要求1所述的靶材清洁组件，其特征在于，所述管道为形状可变的软管，所述靶材清洁组件还包括承载件，形状调整后的软管固定于所述承载件上，所述承载件与所述靶材间隔或贴合设置。

3.根据权利要求1所述的靶材清洁组件，其特征在于，所述气体导向机构的气流出口处设置有调节阀，用于调节气流的流通方向。

4.一种成膜设备，其特征在于，所述成膜设备包括如上述权利要求1至3任一项所述的靶材清洁组件。

5.一种靶材清洁方法，其特征在于，所述靶材清洁方法包括：

提供靶材清洁组件，其包括用于提供气流的气体导向机构；

所述气体导向机构提供朝向靶材的气流，且所述气流的流通方向指向所述靶材的缝隙且所述气流的吹扫区域覆盖所述靶材，并通过所述气流的流通将落于所述靶材缝隙中的颗粒去除；

所述气流的流通方向与所述靶材所处平面相垂直；

所述气体导向机构包括内部中空的管道，所述管道和所述缝隙的延伸方向一致，所述管道的气流出口朝向所述靶材的缝隙；

所述管道的气流出口朝向所述靶材的缝隙包括：

所述管道设置于所述靶材背离待成膜基板的一侧，所述管道朝向所述缝隙的一侧设置有分支管；

所述分支管与所述管道导通并与所述靶材所述处平面相垂直，所述分支管部分从所述靶材背离所述待成膜基板的一侧伸入所述缝隙中，所述气流出口设置于所述分支管的自由端；

所述通过所述气流的流通将落于所述靶材缝隙中的颗粒去除包括：

通过流经所述气流出口和所述缝隙并从所述靶材相对所述待成膜基板的一侧流出的气流将所述缝隙中的颗粒去除。

6.根据权利要求5所述的靶材清洁方法，其特征在于，所述管道为形状可变的软管，所述靶材清洁组件还包括承载件，

所述管道和所述缝隙的延伸方向一致，包括：

调整所述软管的形状，并将调整后的软管固定于所述承载件上，且所述承载件与所述靶材间隔或贴合设置。