[发明专利]一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法

权利要求书

1.一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，将金属涂层光纤一段去除涂覆层，在剥去涂覆层的区域利用激光刻写耐高温光纤光栅，刻写耐高温光纤光栅后对去除涂覆层部分进行保护，再将刻写好的耐高温光纤光栅放于带有凹槽的基片上，耐高温光纤光栅位于凹槽中，然后将两端有金属涂覆层的区域固定在基片上，最后将盖板固定在基片上形成贴片式耐高温光纤光栅传感器，在该贴片式耐高温光纤光栅传感器的前或后设定距离的金属涂层光纤处，制备若干贴片式耐高温光纤光栅传感器，所制备的贴片式耐高温光纤光栅传感器组成分布式耐高温光纤光栅传感器。

2.根据权利要求1所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

1)将金属涂层光纤上一段长度为1cm-2cm部分的涂覆层去除；

2)利用激光在去除金属涂覆层部分的光纤内刻写耐高温光纤光栅；

3)将去除金属涂覆层的部分重新涂覆上金属涂层或者进行金属化封装，对耐高温光纤光栅进行保护；

4)将制备好的耐高温光纤光栅放置在基片的凹槽位置处，耐高温光纤光栅两端有金属涂覆层的区域固定在基片上；

5)将盖板盖在基片上方并固定在基片上，构成贴片式耐高温光纤光栅传感器；

6)在贴片式耐高温光纤光栅传感器的前或后设定距离的金属涂层光纤处，制备若干贴片式耐高温光纤光栅传感器，所制备的贴片式耐高温光纤光栅传感器组成分布式耐高温光纤光栅传感器。

3.根据权利要求2所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，所述步骤2)中刻写的耐高温光纤光栅为超短飞秒脉冲激光器刻写的Type I型、Type II型，或者是利用长脉冲激光器刻写的再生光栅。

4.根据权利要求3所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，所述的再生光栅为Type IIa型和热再生中的一种。

5.根据权利要求2所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，步骤3)中重新涂覆金属涂层采用的方式为电镀、化学镀或二者结合的方式。

6.根据权利要求2所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，所述基片为金属基片或陶瓷基片。

7.根据权利要求6所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，当采用金属基片时，采用激光焊接的方法将耐高温光纤光栅两端有金属涂覆层的区域固定在基片上；当采用陶瓷基片时，采用耐高温胶粘接的方法将耐高温光纤光栅两端有金属涂覆层的区域固定在基片上。

8.根据权利要求2所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，所述的金属涂层光纤的金属涂层材料为铝、铜或金。

9.根据权利要求2所述的一种基于金属涂层光纤的分布式耐高温光纤光栅传感器的制备方法，其特征在于，步骤5)中将盖板盖在基片上方并采用螺丝或焊接或耐高温胶粘接的方式固定在基片上。