[发明专利]一种吸气剂薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种吸气剂薄膜的制备方法，其特征在于具体步骤为：

（1）铝合金经去油水洗后，进行电解抛光，得抛光液，抛光后的铝片经去离子水洗后，得预处理铝合金；以纯锆靶、纯钛靶为靶材，以铝合金为接收源，通过双靶共焦射频反应溅射法沉积在铝合金基体上，在薄膜沉积之前，金属靶材预先经过预溅射清洗，之后进行双靶共焦射频反应溅射沉积，得复合合金；

（2）以复合合金为靶材，以预处理陶瓷为基片接收，运用超高真空磁控溅射镀膜系统溅射镀膜，得吸气剂薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种吸气剂薄膜的制备方法，其特征在于：步骤（1）所述的抛光液为H₄ClO₄和无水乙醇按体积比1∶4混合均匀。

3.根据权利要求1所述的一种吸气剂薄膜的制备方法，其特征在于：步骤（1）所述的抛光条件为16～18V，10e，3min。

4.根据权利要求1所述的一种吸气剂薄膜的制备方法，其特征在于：步骤（1）所述的预溅射清洗为预溅射时间为5～25min，气体吸收层的沉积时间为30～200min，衬底自旋速度为1～10r/min。

5.根据权利要求1所述的一种吸气剂薄膜的制备方法，其特征在于：步骤（1）所述的双靶共焦射频反应溅射沉积条件参数为真空度为1×10^-6～1×10^-4Pa，工作气氛是体积分数为99.99％高纯氩气，以氩气起弧，氮气为反应气体，氩氮流量比10∶(6^-15)，溅射气压为0.1Pa～2Pa，射频功率为80～200W，金属靶材与衬底之间的距离为3～6cm。

6.根据权利要求1所述的一种吸气剂薄膜的制备方法，其特征在于：步骤（2）所述的预处理陶瓷为陶瓷衬底经丙酮、酒精、去离子水超声清洗，在H₂SO₄∶H₂O₂=2∶1溶液中清洗，用去离子水冲洗并烘干。

7.根据权利要求1所述的一种吸气剂薄膜的制备方法，其特征在于：步骤（2）所述的超高真空磁控溅射镀膜系统的条件参数为：沉积系统的背底真空抽至8×10^-5Pa，靶基距6cm，通入高纯氩气(99.999%)，预溅射靶材10～20min，薄膜制备采用射频功率100W，附着层的沉积压强0.2Pa，主体层的沉积压强4Pa，时间分别为4和100min。