[发明专利]OLED显示面板及其制作方法在审
| 申请号： | 201810905040.9 | 申请日： | 2018-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN109037487A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 郭天福 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阻隔体 边缘区域 显示区域 阻隔圈 封装部 封装层 抗水氧 基板 封装结构 间隔设置 制作工艺 无机层 多层 光罩 制程 制作 环绕 包围 侧面 | ||
1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括OLED基板以及设置在所述OLED基板上的封装部；
所述OLED基板包括基板和设置在所述基板上的OLED层，所述基板包括显示区域以及包围所述显示区域的边缘区域，所述OLED层设置在所述显示区域内；
所述封装部包括阻隔体以及封装层；
所述阻隔体设置于所述边缘区域，包括至少一圈阻隔圈，所述阻隔圈环绕所述OLED层并与所述OLED层间隔设置；
所述封装层设置于所述阻隔体上。
2.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述阻隔体呈环状设置于所述边缘区域，所述阻隔圈的环数大于或等于2。
3.根据权利要求1所述的OLED显示面板的制作方法，所述阻隔体呈螺旋状设置于所述边缘区域，所述阻隔圈的螺旋圈数大于或等于2。
4.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述阻隔圈的高度为0.5微米至5微米。
5.根据权利要求2-4任意一项所述的OLED显示面板，其特征在于，相邻所述阻隔圈之间间隔设置
所述阻隔圈的高度沿所述边缘区域至所述显示区域的方向逐渐变高。
6.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述封装层包括依次层叠设置的第一无机层、第二无机层、有机层以及第三无机层；
所述第一无机层设置于所述阻隔体的上方，并覆盖所述OLED层和所述阻隔体。
7.一种OLED显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤S10、提供一OLED基板，所述OLED基板包括基板和设置在所述基板上的OLED层，所述基板包括显示区域以及包围所述显示区域的边缘区域，所述OLED层设置在所述显示区域内；
步骤S20、在所述边缘区域形成阻隔体，所述阻隔体环绕所述OLED层并与所述OLED层间隔设置，所述阻隔体包括至少一圈阻隔圈；
步骤S30、在所述OLED基板的上形成封装层。
8.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S20具体包括：在所述边缘区域采用喷墨打印技术形成至少一圈阻隔液，紫外固化所述阻隔液以形成所述阻隔圈。
9.根据权利要求7所述的OLED显示面板，其特征在于，所述阻隔体呈环状形成于所述边缘区域，所述阻隔圈的环数大于等于2。
10.根据权利要求7所述的OLED显示面板，其特征在于，所述封装层包括依次层叠设置的第一无机层、第二无机层、有机层以及第三无机层；
所述步骤S30包括：采用原子层沉积技术在所述阻隔体的上方形成所述第一无机层。
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