[发明专利]一种带提升导流的连续真空冷却结晶装置

权利要求书

1.一种带提升导流的连续真空冷却结晶装置，其特征在于：包括结晶室、导流筒、提升筒、强制循环搅拌器、浆料回流循环系统，导流筒和提升筒安装于结晶室内部，导流筒置于结晶室中部，提升筒上部置于导流筒内，提升筒下部延伸至结晶室底端，强制循环搅拌器安装于结晶室的底端，浆料回流循环系统置于结晶室底部和强制循环搅拌器的外侧，浆料回流循环系统的浆料回流管与结晶室底部连通，

所述提升筒下部延伸至结晶室底部与强制循环搅拌器相接，

所述的浆料回流循环系统包括浆料回流管、浆料回流泵、回流调节阀和浆料排出口，浆料回流管的回流入口和出口分别与结晶室底部浆料回流出口和底部浆料回流进口相连接；浆料回流泵为管道泵，安装于浆料回流管上，位于底部浆料回流出口附近；浆料回流管与底部浆料回流进口连接处设置浆料回流调节阀，用以调节回流量，满足不同反应停留时间、产品粒度的要求，同时防止底部浆料回流出口和底部浆料回流进口被晶体堵塞；浆料回流管排出末端设置浆料排出口。

2.如权利要求1所述的一种带提升导流的连续真空冷却结晶装置，其特征在于：所述的结晶室为结晶装置主体，中部为直筒，上下为短圆锥体；上部圆锥体的顶部设二次蒸汽出口，二次蒸汽出口与外接抽真空系统相连；中部直筒的外壁设置排气口和清液溢流出口，下部短圆锥体的底端为短圆柱体，强制循环搅拌器上部插于短圆柱体内，短圆柱体侧壁设置两个热料进口，热料进口与强制循环搅拌器连通；结晶室下部短圆锥体的底部侧壁设置底部浆料回流出口和底部浆料回流进口，底部浆料回流出口和底部浆料回流进口位于短圆柱体侧壁的热料进口上侧；底部浆料回流出口和底部浆料回流进口分别与浆料回流循环系统的浆料回流管连通。

3.如权利要求1一种带提升导流的连续真空冷却结晶装置，其特征在于：所述的导流筒置于结晶室中部，导流筒上部为喇叭口，下部为短粗筒体；导流筒上部喇叭口上边沿与结晶室内壁接合，下部的筒体由支撑件固定在结晶室内壁上。

4.如权利要求1一种带提升导流的连续真空冷却结晶装置，其特征在于：所述的提升筒设置在导流筒内，上部为喇叭口，下部为细长管体；提升筒上部置于导流筒内，提升筒上部喇叭口上沿与导流筒上部喇叭口上沿齐平，提升筒与导流筒之间设置支撑件。