[发明专利]一种盖板及其制作方法、显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种盖板的制作方法，其特征在于，包括：

在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极；

形成钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述第一电极；

在所述钝化层上通过构图工艺依次形成黑矩阵及贯穿所述钝化层的第一电极连接孔；

在所述黑矩阵上通过构图工艺形成电极连接层；所述电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且所述第一电极连接线通过所述第一电极连接孔与所述第一电极连接；

通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极，所述第二电极通过贯穿所述平坦层的第二电极连接孔与所述辅助阴极连接；

其中，所述辅助阴极和所述第一电极连接线通过一次构图工艺同时形成。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述通过构图工艺依次形成彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极的步骤，包括：

在所述钝化层上通过构图工艺形成彩色滤光层，所述彩色滤光层在所述钝化层上的正投影部分覆盖所述黑矩阵及所述第一电极连接线；

形成平坦层，所述平坦层覆盖所述电极连接层、所述黑矩阵和所述彩色滤光层；

在所述平坦层上通过构图工艺依次形成支撑柱及贯穿所述平坦层的第二电极连接孔；

通过构图工艺形成第二电极，所述第二电极覆盖所述支撑柱，并通过所述第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在第一衬底上通过构图工艺依次形成薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极的步骤，包括：

在所述第一衬底上形成缓冲层；

在所述缓冲层上通过构图工艺形成有源层；

在所述有源层上通过构图工艺依次形成栅绝缘层和栅极；

通过构图工艺形成层间介质层，所述层间介质层覆盖所述缓冲层、所述有源层、所述栅绝缘层和所述栅极；

在所述层间介质层上通过构图工艺形成源极和漏极，所述源极和所述漏极分别通过所述层间介质层上的过孔与所述有源层连接；

在所述漏极上形成光学传感器；

在所述光学传感器上背离所述漏极的一侧形成所述第一电极。

4.一种盖板，其特征在于，包括：

第一衬底；

依次形成在第一衬底上的薄膜晶体管、光学传感器以及位于所述光学传感器上的第一电极；

钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述第一电极；

形成在所述钝化层上的黑矩阵；

形成在所述黑矩阵上的电极连接层；所述电极连接层包括同层设置的辅助阴极和第一电极连接线，且所述第一电极连接线通过贯穿所述钝化层的第一电极连接孔与所述第一电极连接；

依次形成的彩色滤光层、平坦层、支撑柱和第二电极，所述第二电极通过贯穿所述平坦层的第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。

5.根据权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述彩色滤光层形成在所述钝化层上，所述彩色滤光层在所述钝化层上的正投影部分覆盖所述黑矩阵及所述第一电极连接线；所述平坦层覆盖所述电极连接层、所述黑矩阵和所述彩色滤光层；所述支撑柱形成在所述平坦层上；所述第二电极覆盖所述支撑柱，并通过所述第二电极连接孔与所述辅助阴极连接。

6.根据权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述电极连接层的厚度为至

7.根据权利要求4所述的盖板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括：

形成在所述第一衬底上的缓冲层；

形成在所述缓冲层上的有源层；

依次形成在所述有源层上的栅绝缘层和栅极；

层间介质层，所述层间介质层覆盖所述缓冲层、所述有源层、所述栅绝缘层和所述栅极；

形成在所述层间介质层上的源极和漏极，所述源极和所述漏极分别通过所述层间介质层上的过孔与所述有源层连接。

8.根据权利要求7所述的盖板，其特征在于，所述光学传感器形成在所述漏极上，所述第一电极形成在所述光学传感器背离所述漏极的一侧。