[发明专利]一种X射线定向仪缺陷识别的批量处理方法有效
申请号: | 201810915378.2 | 申请日: | 2018-08-13 |
公开(公告)号: | CN109034262B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 关守平;王玉勇 | 申请(专利权)人: | 东北大学 |
主分类号: | G06K9/62 | 分类号: | G06K9/62;G01N23/20 |
代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人: | 刘晓岚 |
地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 射线 定向 缺陷 识别 批量 处理 方法 | ||
本发明提出一种X射线定向仪缺陷识别的批量处理方法,属于单晶材料加工领域,提出了离线批量式单晶晶体缺陷检测方法,设计了单晶晶体回摆曲线的特征向量,以抽象出曲线特征,结合粒子群优化算法,并引入基于密度函数的有效半径,改进了传统FCM算法,提升算法对于初始化聚类中心的鲁棒性,避免陷入局部极优,并很好地过滤干扰数据,从而实现对批量数据进行聚类,之后仅需对聚类中心特征向量进行缺陷检测,根据隶属度关系即可得到所有待测曲线的缺陷类型,其中包含了本发明提出的改进的模糊传递闭包聚类算法,定义模糊相似矩阵,保证了相似计算的准确性,本发明为晶体检测技术提供了全新的思路和实现方式。
技术领域
本发明属于单晶材料加工领域,具体涉及一种X射线定向仪缺陷识别的批量处理方法。
背景技术
在晶体生长过程中,不可避免的问题就是晶体缺陷,因其技术固有的局限性会导致存在非理想的晶体结构。工业上,高精度、高效率的X射线衍射技术是常用的晶体缺陷无损检测手段,通过单晶晶体对X射线产生衍射,接收衍射信号得到对应特征曲线,即回摆曲线,基于回摆曲线特征即可分析待测晶体的品质特征。
目前,基于上述技术用于单晶晶体缺陷检测的X射线定向仪自动化水平欠缺,质量参差不齐,呈现“一人一机一库一片”的现象。仪器需人工参与,且无法高效、准确、智能地识别单晶晶体的缺陷类型;各单晶晶体检测数据相互独立,各仪器仅为“信息孤岛”,无法相互借鉴、相互学习,不能更新、共享样本库;一次仅能进行一片单晶晶体的检测工作,无法对来自其他仪器的待识别回摆曲线数据进行识别检测,无法离线对批量回摆曲线进行快速检测。随着单晶晶体材料的发展,应用面越来越广,对于单晶晶体材料品质的高效快速的检测技术需求日益迫切。
针对上述问题,本发明提出了一种X射线定向仪缺陷识别的批量处理方法,根据已经测量得到的大量单晶材料回摆曲线,以批量的形式进行缺陷类型识别,实现了单晶材料的快速自动缺陷识别,为X射线定向仪的应用提供了新的功能。
模糊划分的概念最早由著名学者Ruspini提出,随后由Kim等学者提出基于模糊等价关系的模糊聚类方法。该方法的基本思想为:由于模糊等价矩阵R*是论域集U与自己的直积U×U上的一个模糊子集,其具有对称性和自反性,因此可以对R*进行分解,选用某一确定的阈值λ∈[0,1]作R*的截集,截得的普通子集就是U上的一个普通等价关系。目前对于模糊等价矩阵的求取,使用最广泛的方法是通过模糊相似矩阵R,并采用传递闭包方法求取模糊等价矩阵R*,其中常用的求取模糊相似矩阵R的方法有相似系数法和距离法。在本发明的应用中,传统的模糊传递闭包聚类算法不满足需要,主要体现在如下两个方面:(1)现有的模糊相似矩阵计算方法计算得到的数值与实际曲线相似度偏差较大;(2)现有的计算方法在计算相似度时,人眼直观不相似的两条曲线仍有一定的相似度。本发明将设计一种新的模糊相似矩阵的计算方法进行相应改进。
模糊聚类是一种采用模糊数学语言对事物按一定的要求进行描述和分类的数学方法。Fuzzy c-means(FCM)算法是一种基于目标函数的模糊聚类算法,其基本思想是以KCM算法为根据,并引入模糊集的理念,从硬划分转变为软划分。FCM算法根据极小值条件计算出聚类中心和隶属度矩阵的迭代公式,通过迭代计算得到使目标函数达到最小值的聚类中心和隶属度矩阵,从而得到数据集的精确分类。FCM算法存在如下两方面的不足:(1)FCM算法的初始聚类中心较差时,系统容易陷入局部最优;(2)FCM算法对所有的异常数据无能为力,所有异常数据均被分类。本发明将对传统FCM算法进行改进并应用。该方法识别效率高,识别准确,能够甄别异常数据,鲁棒性好,为批量待测单晶晶体缺陷检测的实现提供了一种有效的方法。
发明内容
本发明的目的在于针对现阶段X射线定向仪存在的不足以及市场对于离线批量检测技术的需求,提出一种X射线定向仪缺陷识别的批量处理方法,包括如下步骤:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东北大学,未经东北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810915378.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。