[发明专利]一种紫外雪崩光电二极管在审
申请号: | 201810919380.7 | 申请日: | 2018-08-09 |
公开(公告)号: | CN109037385A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 陆海;周东;渠凯军 | 申请(专利权)人: | 镇江镓芯光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0224 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 任立 |
地址: | 212415 江苏省镇江市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 雪崩光电二极管 填充因子 欧姆接触层 触点电极 空穴 电荷控制层 可见光抑制 量子效率 雪崩增益 增益斜率 电极 倍增层 过渡层 吸收层 衬底 穿通 改良 调控 | ||
1.一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:包括:n型SiC衬底(1)、p+欧姆接触层(2)、n-倍增层(3)、n型电荷控制层(4)、n-吸收层(5)、n型过渡层(6)、n+欧姆接触层(7)、p触点电极(8)、n触点电极(9),所述各层按照从下至上的顺序依次为n型SiC衬底(1)、p+欧姆接触层(2)、n-倍增层(3)、n型电荷控制层(4)、n-吸收层(5)、n型过渡层(6)、n+欧姆接触层(7);所述p触点电极(8)位于p+欧姆接触层(2)上;所述n触点电极(9)位于n+欧姆接触层(7)上。
2.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述n型SiC衬底(1)半径为150μm。
3.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述p+欧姆接触层(2)厚度为3.0μm,其Al离子单位体积内的掺杂浓度NA为6×1018cm-3。
4.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述n-倍增层(3)厚度为0.2μm,其Al离子单位体积内的掺杂浓度ND为2×1015cm-3。
5.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述n型电荷控制层(4)厚度为0.2μm,其Al离子单位体积内的掺杂浓度ND为1×1018cm-3。
6.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述n-吸收层(5)厚度为0.1μm,其Al离子单位体积内的掺杂浓度ND为2×1015cm-3。
7.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述n型过渡层(6)厚度为0.1μm,其Al离子单位体积内的掺杂浓度ND为1×1018cm-3。
8.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述n+欧姆接触层(7)厚度为0.1μm,其Al离子单位体积内的掺杂浓度ND为2×1019cm-3。
9.如权利要求1所述的一种紫外雪崩光电二极管,其特征在于:所述p触点电极与n触点电极采用树枝状顶层电极结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的