[发明专利]含有二硫键的化合物及其用途和制备方法有效

专利信息
申请号: 201810920804.1 申请日: 2018-08-14
公开(公告)号: CN108997447B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 陶厚朝;薛东香 申请(专利权)人: 上海科技大学
主分类号: C07H5/10 分类号: C07H5/10;C07H1/00;C07K1/14
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 张新鑫;许亦琳
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 含有 二硫键 化合物 及其 用途 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种含有二硫键的化合物,其特征在于:所述的化合物,其结构式为

2.如权利要求1所述的化合物在制备去垢剂制剂中的用途。

3.一种去垢剂制剂,所述去垢剂制剂含有如权利要求1所述的化合物。

4.如权利要求1所述的化合物以及权利要求3所述的去垢剂制剂在膜蛋白分离、纯化、离体表达或结构功能研究中的应用。

5.如权利要求4所述的应用,其特征在于,所述的化合物以及去垢剂制剂需要在断裂试剂的作用下断裂。

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