[发明专利]一种清洗瓷坩埚的方法

权利要求书

1.一种清洗瓷坩埚的方法，其特征是，采用如下步骤：

步骤一：将清洗剂加入水热合成反应釜的聚四氟乙烯内衬中，所述清洗剂为蒸馏水和硝酸的混合液；所述硝酸的质量分数为65.0%～68.0%，所述硝酸和蒸馏水体积比为1:(4～6)；

步骤二：将待洗瓷坩埚投入盛有所述清洗剂的聚四氟乙烯内衬中；

步骤三：将聚四氟乙烯内衬合上盖子放入水热合成反应釜中；

步骤四：将水热合成反应釜放入鼓风干燥箱中，升温至120摄氏度，进行清洗反应；

步骤五：清洗反应结束后进行冷却降温；

步骤六：取出聚四氟乙烯内衬，将聚四氟乙烯内衬中的清洗剂倒出，取出聚四氟乙烯内衬中的瓷坩埚，用清水涮洗聚四氟乙烯内衬和瓷坩埚，晾干。

2.根据权利要求1所述的一种清洗瓷坩埚的方法，其特征是，步骤二中将待洗瓷坩埚投入盛有所述清洗剂的聚四氟乙烯内衬后，所述待洗瓷坩埚和所述清洗剂的总体积不超过聚四氟乙烯内衬容量的75%。

3.根据权利要求1所述的一种清洗瓷坩埚的方法，其特征是，步骤二中所述待洗瓷坩埚被所述清洗剂浸没。

4.根据权利要求1所述的一种清洗瓷坩埚的方法，其特征是，步骤四中所述清洗反应的时间为2～5小时。

5.根据权利要求1所述的一种清洗瓷坩埚的方法，其特征是，步骤五中所述冷却降温的时间为12～24小时。