[发明专利]SRAM存储单元在审
申请号: | 201810952092.1 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN109102833A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 蒋建伟 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G11C16/04 | 分类号: | G11C16/04;G11C16/10;G11C16/26 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 交叉耦合锁存器 两组 近阈值电压 错误功能 传输管 | ||
1.一种SRAM存储单元,其特征在于:由两组P型交叉耦合锁存器结构和两组N型交叉耦合锁存器结构以及四个N型传输管组成;
第一PMOS晶体管的源极和第二PMOS晶体管的源极与电源电压端VDD相连接,第一PMOS晶体管的栅极与第二PMOS晶体管的漏极相连接,其连接的节点记为Q,第二PMOS晶体管的栅极与第一PMOS晶体管的漏极相连接,其连接的节点记为A,形成第一组P型交叉耦合锁存器结构;
第三PMOS晶体管的源极和第四PMOS晶体管的源极与电源电压端VDD相连接,第三PMOS晶体管的栅极与第四PMOS晶体管的漏极相连接,其连接的节点记为B,第四PMOS晶体管的栅极与第三PMOS晶体管的漏极相连接,其连接的节点记为QN,形成第二组P型交叉耦合锁存器结构;
第二NMOS晶体管的漏极和第三NMOS晶体管的栅极与节点Q相连接,第三NMOS晶体管的漏极和第二NMOS晶体管的栅极与节点QN相连接,第二NMOS晶体管的源极和第三NMOS晶体管的源极接地,形成第一组N型交叉耦合锁存器结构;
第一NMOS晶体管的漏极和第四NMOS晶体管的栅极与节点A相连接,第四NMOS晶体管的漏极和第一NMOS晶体管的栅极与节点B相连接,第一NMOS晶体管的源极和第四NMOS晶体管的源极接地,形成第二组N型交叉耦合锁存器结构;
第五NMOS晶体管的漏极与位线BL相连接,其栅极与字线WL相连接,其源极与节点Q相连接;第六NMOS晶体管的漏极与位线BLB相连接,其栅极与字线WL相连接,其源极与节点QN相连接;第七NMOS晶体管的漏极与位线BL相连接,其栅极与字线WL相连接,其源极与节点B相连接,第八NMOS晶体管的漏极与位线BLB相连接,其栅极与字线WL相连接,其源极与节点A相连接,第五~第八NMOS晶体管为传输管。
2.如权利要求1所述的存储单元,其特征在于,写0的过程如下:
设初始状态A、Q、QN、B四个节点的电位分别为:0、1、0、1,将位线BL下拉到0电位,位线BLB上拉到1电位,开启字线WL,节点Q和B的电位被拉到0,节点QN和A被上拉到“电源电压减去一个N管阈值电压”的电位;
由于节点Q为0电位,第一PMOS晶体管开启,第三NMOS晶体管NM3关断,节点B为0电位则导致第三PMOS晶体管开启,第一NMOS晶体管NM1关断,则节点A和QN都被拉到了高电位1;最终,A、Q、QN、B四个节点的电位分别被改为:1、0、1、0,逻辑0被写入SRAM单元内。
3.如权利要求1所述的存储单元,其特征在于,写1的过程如下:
设初始状态A、Q、QN、B四个节点的电位分别为:1、0、1、0,将位线BL上拉到1电位,位线BLB下拉到0电位,开启字线WL,节点A和QN电位被拉到0电位,节点Q和B被上拉到“电源电压减去一个N管阈值电压”的电位;
由于节点A为0电位,第二PMOS晶体管开启,第四NMOS晶体管关断,节点QN为0电位则导致第四PMOS晶体管开启,第二NMOS晶体管NM2,则节点Q和B都被拉到了1电位,最终,A、Q、QN、B四个节点的电位分别被改为:0、1、0、1,逻辑1被写入SRAM单元内。
4.如权利要求1所述的存储单元,其特征在于,读1的过程如下:位线BL和BLB都预先被拉到1电位,开启字线WL,由于节点Q和B存的是1,所以位线BL电位不变,节点A和QN的0电位会导致位线BLB被下拉,当位线BL和BLB电位差达到一定大小时,会被灵敏放大器读出放大,继而将数据1读出。
5.如权利要求1所述的存储单元,其特征在于,读0的过程如下:位线BL和BLB都预先被拉到1电位,开启字线WL,由于节点QN和A存的是1,所以位线BLB电位不变,节点B和Q的0电位会导致位线BL被下拉,当位线BL和BLB电位差达到一定大小时,会被灵敏放大器读出放大,继而将数据0读出。
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