[发明专利]一种医疗用水处理设备

权利要求书

1.一种医疗用水处理设备，其特征在于，包括第一循环系统、第二循环系统和电气控制系统；

所述第一循环系统包括水箱和介质水处理模块；

所述第二循环系统包括水箱和真空储水装置；

所述真空储水装置两端还与所述介质水处理模块两端连接；

所述第一循环系统中，所述介质水处理模块对所述水箱中的水进行水处理，获得介质水，并传输至所述第二循环系统的真空储水装置中存储；

所述第二循环系统中，所述真空储水装置向医疗用水设备提供介质水，每间隔预设时间，所述真空储水装置还将其存储的所述介质水循环至所述第一循环系统的水箱中，以使所述介质水处理模块对所述介质水再次进行处理，并传输至所述真空储水装置；

所述电气控制系统控制所述第一循环系统和第二循环系统的工作状态。

2.如权利要求1所述的医疗用水处理设备，其特征在于，所述第一循环系统还包括第一电磁阀和第二电磁阀；

所述第二控制系统还包括第三电磁阀和第四电磁阀；

所述第一电磁阀和所述第二电磁阀设置于所述水箱两端；

所述第三电磁阀和所述第四电磁阀设置于所述真空储水装置两端。

3.如权利要求1所述的医疗用水处理设备，其特征在于，所述介质水处理模块包括循环水泵单元、真空去气单元和半导体温控单元；

所述循环水泵单元与所述真空去气单元和所述半导体温控单元连接；

所述真空去气单元去除所述水箱中水的气体，获得去气水；

所述半导体温控单元调整所述去气水的温度，获得介质水。

4.如权利要求1至3任一项所述的医疗用水处理设备，其特征在于，所述第一电磁阀设置于所述水箱与所述半导体温控单元之间，控制所述水箱与所述半导体温控单元之间的水流通；

所述第二电磁阀设置于所述第一电磁阀和所述真空储水装置之间，控制所述真空储水装置与所述半导体温控单元及所述水箱之间的水流通；

所述第三电磁阀设置于所述水箱与所述真空去气单元之间，控制所述水箱与所述真空去气单元之间的水流通；

所述第四电磁阀设置于所述第三电磁阀与所述真空储水装置之间，控制所述真空储水装置与所述水箱及所述真空去气单元之间水流通。

5.如权利要求4所述的医疗用水处理设备，其特征在于，所述真空去气单元、所述半导体温控单元和所述水箱启动时，所述电气控制系统开启所述第一电磁阀和所述第二电磁阀；

所述真空去气单元和所述半导体温控单元关闭、所述水箱开启时，所述电气控制系统开启所述第三电磁阀和所述第四电磁阀。

6.如权利要求4所述的医疗用水处理设备，其特征在于，仅所述真空储水装置启动时，所述电气控制系统开启所述第一电磁阀、所述第二电磁阀、所述第三电磁阀和所述第四电磁阀后，开启所述真空去气单元和所述半导体温控单元；

所述真空去气单元和所述半导体温控单元关闭时，所述电气控制系统关闭所述第一电磁阀、所述第二电磁阀、所述第三电磁阀和所述第四电磁阀。

7.如权利要求4所述的医疗用水处理设备，其特征在于，所述真空去气单元和所述半导体温控单元关闭、所述水箱开启时，所述电气控制系统开启所述第一电磁阀、所述第二电磁阀、所述第三电磁阀和所述第四电磁阀；

所述水箱关闭时，所述电气控制系统关闭所述真空储水设备。

8.如权利要求1所述的医疗用水处理设备，其特征在于，所述水箱中设置有水位测量装置和温度测量装置；

所述水位测量装置和所述温度传感器还与所述电气控制系统连接。